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申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日：2024-03-08
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN118210203A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G03F1/36
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.18#公开
摘要：本发明提供一种预估图形密度的方法，所述方法包括：提供版图，并对所述版图进行OPC运算以获取OPC目标图形，其中，所述OPC目标图形至少包括凸角，且所述凸角的数目至少等于4；对所述OPC目标图形的凸角进行切角预处理以得到预处理图形；根据所述预处理图形的面积与所述版图总面积的比值得到图形密度；其中，所述凸角为相邻的两条边组成的内角为90°的角。通过本发明解决了如何快速、准确计算出光刻胶中图形密度的问题。
主权项：1.一种预估图形密度的方法，其特征在于，所述方法包括：提供版图，并对所述版图进行OPC运算以获取OPC目标图形，其中，所述OPC目标图形至少包括凸角，且所述凸角的数目至少等于4；对所述OPC目标图形的凸角进行切角预处理以得到预处理图形；根据所述预处理图形的面积与所述版图总面积的比值得到图形密度；其中，所述凸角为相邻的两条边组成的内角为90°的角。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 预估图形密度的方法
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