首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】一种埃米防蓝光镜片及其制备方法_厦门美澜光电科技有限公司_201810297701.4 

申请/专利权人:厦门美澜光电科技有限公司

申请日:2018-03-30

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN108303760B

主分类号:G02B5/20

分类号:G02B5/20;G02B1/14;G02B1/115;C23C14/28

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2018.12.07#实质审查的生效;2018.07.20#公开

摘要:本发明涉及一种埃米防蓝光镜片及其制备方法,所述镜片包括基底、打底层、复合薄膜层和保护层,所述打底层为二氧化硅或硅铝混合物,厚度为800±100埃米,所述复合薄膜层包括4层、6层或者8层高折射率层和低折射率层交替堆叠而成薄膜,所述高折射率层为Ta2O5、Ti3O5或Nb2O5中的任意一种,厚度为500±100埃米,所述低折射率层为二氧化硅或硅铝混合物。本发明所制备的埃米防蓝光镜片对波长在340~500nm的光线反射效果较好,具有防蓝光效果;镜片在经过盐水煮沸和纯水浸泡循环11次后,百格测试皆不会出现膜层脱落,具有较好的膜层附着力;同时具有较好的抗海水腐蚀效果,尤其适用于海边环境。

主权项:1.一种埃米防蓝光镜片,其特征在于:包括基底、打底层、复合薄膜层和保护层,所述打底层为硅铝混合物,厚度为800±100埃米,所述复合薄膜层包括4层、6层或者8层高折射率层和低折射率层交替堆叠而成薄膜,所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜,工作气体为氩气或者氧气,使用电压为120-180V,电流为4-9A;所述高折射率层为Nb2O5,厚度为500±100埃米,所述低折射率层为硅铝混合物,与所述保护层相邻的所述低折射率层的厚度为1000-1600埃米,与所述保护层不相邻的所述低折射率层的厚度为800±100埃米,所述硅铝混合物为真空镀膜材料L5,所述埃米防蓝光镜片具有抗海水腐蚀的效果;所述低折射率层的折射率为1.4-1.5;所述保护层为防水薄膜,厚度为50-200埃米。

全文数据:一种埃米防蓝光镜片及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及光学镜片领域,尤其是一种埃米防蓝光镜片及其制备方法。背景技术[0002]蓝光是可见光的重要组成部分,自然界本身没有单独的白光,蓝光与绿光、红光混合后呈现出白光。绿光与红光能量较小,对眼睛刺激较小,蓝光波短,能量高,能够直接穿透晶状体直达眼部黄斑区,尤其是短波蓝光,其波长处于400nm-480nm之间,具有相对较高能量的光线。该波长内的蓝光会使眼睛内的黄斑区毒素量增高,严重威胁我们的眼底健康。[0003]海边风景宜人,但光线较强,防蓝光镜片具有潜在的发展市场,然而目前防蓝光镜片存在以下问题:1、镜片不防水,水渍粘附镜片表面,影响视觉,带来使用的不便;2、由于海水含盐,具有一定的腐蚀性,防蓝光涂层遇到海水环境,容易剥落,出现褪色和防蓝光失效。发明内容[0004]本发明所要解决的问题是克服现有技术存在的不足,提供一种薄膜附着性好、遇海水不褪色不剥落、能切除蓝光的埃米防蓝光镜片及其制备方法。[0005]本发明中,以硅铝混合物作为打底层,厚度为800±100埃米,该打底层是获得较好薄膜附着性的基础,硅铝混合物相比与普通的二氧化硅镀膜材料,所获得的打底层具有更高的硬度,镀层结合力更好,从整体上提升镜片的力学强度,并增强抗海水效果。[0006]本发明中,所述复合薄膜层包括4层、6层或者8层高折射率层和低折射率层交替堆叠而成薄膜,是切除蓝光的关键结构。所述高折射率层为Ta205、Ti305或Nb2O5中的任意一种,厚度为500±100埃米,所述低折射率层为硅铝混合物,与所述保护层相邻的所述低折射率层的厚度为1000-1600埃米,与所述保护层不相邻的所述低折射率层的厚度为800±100埃米,这种高、低折射率层材料层叠设计,匹配相应的厚度要求,才能实现防蓝光的效果。另一方面,复合薄膜层成膜时辅助离子源设备,可以提升膜层的硬度,减小膜层中的分子间隙,膜层中及膜层之间结合更紧密,有效防止被海水侵蚀。[0007]本发明中,保护层为防水薄膜,是本发明所述镜片抵抗海水腐蚀的第一道屏障。保护层优选具有抗指纹效果的防水层,避免产生水渍影响视觉。复合薄膜层是防止镜片被海水侵蚀的关键,当保护层被破坏后,由于复合薄膜层硬度高,结合力好,遇到海水不褪色。[0008]具体方案如下:[0009]—种埃米防蓝光镜片,包括基底、打底层、复合薄膜层和保护层,所述打底层为二氧化硅或硅铝混合物,厚度为800±100埃米,所述复合薄膜层包括4层、6层或者8层高折射率层和低折射率层交替堆叠而成薄膜,所述高折射率层为Ta205、Ti305或Nb2O5中的任意一种,厚度为500±100埃米,所述低折射率层为二氧化硅或硅铝混合物,与所述保护层相邻的所述低折射率层的厚度为1000-1600埃米,与所述保护层不相邻的所述低折射率层的厚度为800±100埃米。[0010]进一步的,所述基底为玻璃、亚克力AC基片、聚碳酸酯Polycarbonate基片、尼龙NyIon基片、CR-39基片的任意一种。[0011]进一步的,所述硅铝混合物为真空镀膜材料L5。[0012]进一步的,所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。[0013]进一步的,所述低折射率层的折射率为1.4-1.5。[00M]进一步的,所述保护层为防水薄膜,厚度为50-200埃米。[0015]本发明还保护一种制备所述的埃米防蓝光镜片的方法,包括以下步骤:[0016]1基底清洁后烘烤,放入冶具,送入真空室;[0017]2利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,打底层材料为二氧化硅或硅铝混合物,膜层监控厚度800±100埃米;[0018]3利用真空镀膜技术,在离子源设备辅助成膜条件下,在步骤(1得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,所述的高折射率层材料为Ta205、Ti305或Nb2O5中的任意一种,膜层监控厚度500±100埃米,所述的低折射率层材料为二氧化硅或硅铝混合物,最后一层所述低折射率层的膜层监控厚度1000-1600埃米,其余所述低折射率层的膜层监控厚度800±100埃米;[0019]⑷在步骤⑶所得的最后一层所述低折射率层上镀上保护层。[0020]进一步的,所述步骤⑴中烘烤为在40-80°C烘烤l-3h。[0021]进一步的,所述步骤⑴中真空室的真空度彡3XlΓ5Torr。[0022]进一步的,所述步骤3中离子源设备辅助成膜,工作气体为氩气或者氧气,使用电压为120-180V,电流为4-9A。[0023]有益效果:本发明所制备的埃米防蓝光镜片对波长在340〜500nm的光线反射效果较好,尤其是波长为400〜480nm的蓝光,其反射率平均为52.5%,最低处超过27%,最高反射率达到68.4%,具有较好的防蓝光效果;采用特殊的结构和材料配合,以离子源辅助复合薄膜层成膜,镜片具有优异的性能,具体的,镜片在经过盐水煮沸和纯水浸泡循环11次后,百格测试皆不会出现膜层脱落,具有较好的膜层附着力;使用4.5%质量分数盐水常温浸泡模拟海水环境,镜片浸泡长达252H不褪色,具有较好的抗海水腐蚀效果,尤其适用于海边环境。附图说明[0024]图1是本发明实施例1提供的埃米防蓝光镜片结构示意图;[0025]图2是本发明实施例2提供的埃米防蓝光镜片的光谱反射曲线。具体实施方式[0026]下面结合实施例对本发明技术方案作进一步阐述。实施例中未注明具体技术或条件者,按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市购获得的常规产品。[0027]实施例中的真空镀膜材料L5,中国通用名称“硅铝混合物”,“L5”是其德国通用名称,该材料可由默克光学公司、南阳恺瑞特光学新材料有限公司或苏州普京真空技术有限公司提供,常用规格为I-3mm散粒,白色。[0028]实施例中真镀膜机为龙翩真空科技股份有限公司提供,离子源设备为美国考夫曼公司KRI离子源。[0029]实施例1[0030]参见图1,一种埃米防蓝光镜片,包括基底0、打底层1、高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7和保护层8,打底层1到保护层8的各层厚度依次为:800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米、150埃米,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6和低折射率层7构成复合薄膜层。[0031]其中,基底0为玻璃,打底层1、低折射率层3、低折射率层5、低折射率层7为真空镀膜材料L5,高折射率层2、高折射率层4、高折射率层6为Ta2O5,保护层8为防水保护膜。[0032]其制备过程如下:[0033]1基底清洁后在60°C烘烤2h,之后放入冶具,送入真镀膜机的真空室,真空室的真空度为3XHT5Torr;[0034]2利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,膜层监控厚度800埃米;[0035]3利用真空镀膜技术,离子源设备辅助成膜条件为,以氩气或者氧气作为离子源发射气体,使用电压为150V,电流为6A,在步骤(1得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,构成复合薄膜层,其中,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7的膜层监控厚度依次为500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米;[0036]⑷在步骤⑶所得的低折射率层7上镀上保护层,膜层监控厚度150埃米,即得。[0037]实施例2[0038]对实施例1获得的镜片经日本HITACHI分光光度计U3900H光谱反射检测,其光谱反射曲线见图2,相关数据见表1。[0039]表1镜片光谱反射检测结果表[0040][0041][0042]从表1可以看出,本发明所制备的镜片对波长在340〜500nm的光线反射效果较好,尤其是波长为400〜480nm的蓝光,其反射率平均为52.5%,最低处超过27%,最高反射率达到68.4%,具有较好的防蓝光效果。[0043]实施例3[0044]—种埃米防蓝光镜片,包括基底0、打底层1、高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7和保护层8,打底层1到保护层8的各层厚度依次为:700埃米、500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1600埃米、50埃米,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6和低折射率层7构成复合薄膜层。[0045]其中,基底0为亚克力AC基片,打底层1、低折射率层3、低折射率层5、低折射率层7为二氧化硅,高折射率层2、高折射率层4、高折射率层6为Ta205,保护层8为抗指纹防水保护膜,防水材料为韩国度恩D0N9045。[0046]其制备过程如下:[0047]1基底清洁后在40°C烘烤3h,之后放入冶具,送入真镀膜机的真空室,真空室的真空度为1.5Xl〇-5Torr;[0048]2利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,膜层监控厚度700埃米;[0049]3利用真空镀膜技术,离子源设备辅助成膜条件为,以氧气作为离子源发射气体,使用电压为120V,电流为9A,在步骤⑴得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,构成复合薄膜层,其中,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7的膜层监控厚度依次为500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1600埃米;[0050]⑷在步骤⑶所得的低折射率层7上镀上保护层,膜层监控厚度50埃米,即得。[0051]实施例4[0052]—种埃米防蓝光镜片,包括基底0、打底层1、高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7和保护层8,打底层1到保护层8的各层厚度依次为:900埃米、400埃米、800埃米、400埃米、800埃米、400埃米、1000埃米、200埃米,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6和低折射率层7构成复合薄膜层。[0053]其中,基底0为聚碳酸酯Polycarbonate基片,打底层I、低折射率层3、低折射率层5、低折射率层7为真空镀膜材料L5,高折射率层2、高折射率层4、高折射率层6为Ti305,保护层8为防水保护膜。[0054]其制备过程如下:[0055]1基底清洁后在80°C烘烤Ih,之后放入冶具,送入真镀膜机的真空室,真空室的真空度IXl〇_5Torr;[0056]2利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,膜层监控厚度900埃米;[0057]3利用真空镀膜技术,离子源设备辅助成膜条件为,以氩气作为离子源发射气体,使用电压为180V,电流为4A,在步骤⑴得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,构成复合薄膜层,其中,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7的膜层监控厚度依次为900埃米、400埃米、800埃米、400埃米、800埃米、400埃米、1000埃米;[0058]⑷在步骤⑶所得的低折射率层7上镀上保护层,膜层监控厚度200埃米,即得。[0059]实施例5[0060]—种埃米防蓝光镜片,包括基底0、打底层1、高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5和保护层8,打底层1到保护层8的各层厚度依次为:800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米、150埃米,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5构成复合薄膜层。[0061]其中,基底0为尼龙Nylon基片,打底层1、低折射率层3、低折射率层5为二氧化硅,高折射率层2、高折射率层4为Ti305,保护层8为防水保护膜。[0062]其制备过程如下:[0063]1基底清洁后在60°C烘烤2h,之后放入冶具,送入真镀膜机的真空室,真空室的真空度为3X10_5Torr;[0064]2利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,膜层监控厚度800埃米;[0065]3利用真空镀膜技术,离子源设备辅助成膜条件为,以氩气或者氧气作为离子源发射气体,使用电压为160V,电流为7A,在步骤(1得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,构成复合薄膜层,其中,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5的膜层监控厚度依次为500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米;[0066]⑷在步骤⑶所得的低折射率层7上镀上保护层,膜层监控厚度150埃米,即得。[0067]实施例6[0068]—种埃米防蓝光镜片,包括基底0、打底层1、高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7、高折射率层9、低折射率层10和保护层8,上述各层厚度依次为:800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米、150埃米,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7、高折射率层9和低折射率层10构成复合薄膜层。[0069]其中,基底0为CR-39基片,打底层1、低折射率层3、低折射率层5、低折射率层7、低折射率层10为真空镀膜材料L5,高折射率层2、高折射率层4、高折射率层6、高折射率层9为Nb205,保护层8为防水保护膜。[0070]其制备过程如下:[0071]1基底清洁后在60°C烘烤2h,之后放入冶具,送入真镀膜机的真空室,真空室的真空度为1.5Xl〇-5Torr;[0072]⑵利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,膜层监控厚度800埃米;[0073]3利用真空镀膜技术,离子源设备辅助成膜条件为,以氩气或者氧气作为离子源发射气体,使用电压为130V,电流为8A,在步骤(1得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,构成复合薄膜层,其中,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7、高折射率层9、低折射率层10的膜层监控厚度依次为500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米;[0074]⑷在步骤⑶所得的低折射率层7上镀上保护层,膜层监控厚度150埃米,即得。[0075]实施例7[0076]—种埃米防蓝光镜片,包括基底0、打底层1、高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7和保护层8,打底层1到保护层8的各层厚度依次为:800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米、50埃米,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6和低折射率层7构成复合薄膜层。[0077]其中,基底0为玻璃,打底层1、低折射率层3、低折射率层5、低折射率层7为二氧化硅,高折射率层2、高折射率层4、高折射率层6为Nb205,保护层8为防水保护膜。[0078]其制备过程如下:[0079]1基底清洁后在60°C烘烤2h,之后放入冶具,送入真镀膜机的真空室,真空室的真空度为2X10_5Torr;[0080]2利用真空镀膜技术在步骤⑴得到的基底上镀打底层,膜层监控厚度800埃米;[0081]3利用真空镀膜技术,离子源设备辅助成膜条件为,以氩气或者氧气作为离子源发射气体,使用电压为170V,电流为5A,在步骤(1得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,构成复合薄膜层,其中,高折射率层2、低折射率层3、高折射率层4、低折射率层5、高折射率层6、低折射率层7的膜层监控厚度依次为500埃米、800埃米、500埃米、800埃米、500埃米、1500埃米;[0082]⑷在步骤⑶所得的低折射率层7上镀上保护层,膜层监控厚度50埃米即得。[0083]实施例8[0084]对实施例中的镜片进行镀层附着性能测试和抗海水性能测试,其中,附着性能测试是先将镜片浸泡在4.5%质量分数盐水100°C煮5分钟,然后常温纯水浸泡5分钟,以此循环,循环结束后进行百格测试,查看膜层脱落情况。抗海水性能测试是将镜片放入4.5%质量分数盐水常温浸泡,查看镜片是否褪色,其结果如下:[0085]表2镜片镀层附着性能测试和抗海水性能测试结果表[0088]注:表2中H表示小时。[0089]本发明中所制备的镜片颜色为蓝色。从表2可以看出,本发明所制备的镜片在经过盐水煮沸和纯水浸泡循环11次后,百格测试皆不会出现膜层脱落,镀层具有较好的附着性能。同时,使用4.5%质量分数盐水常温浸泡模拟海水环境,镜片浸泡长达252H不褪色,具有抗海水腐蚀的效果。[0090]尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

权利要求:1.一种埃米防蓝光镜片,其特征在于:包括基底、打底层、复合薄膜层和保护层,所述打底层为二氧化硅或硅铝混合物,厚度为800±100埃米,所述复合薄膜层包括4层、6层或者8层高折射率层和低折射率层交替堆叠而成薄膜,所述高折射率层为Ta2〇5、Ti3〇5或Nb2O5中的任意一种,厚度为500±100埃米,所述低折射率层为二氧化硅或硅铝混合物,与所述保护层相邻的所述低折射率层的厚度为1000-1600埃米,与所述保护层不相邻的所述低折射率层的厚度为800±100埃米。2.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片,其特征在于:所述基底为玻璃、亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片的任意一种。3.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片,其特征在于:所述硅铝混合物为真空镀膜材料L5〇4.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片,其特征在于:所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。5.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片,其特征在于:所述低折射率层的折射率为1·4-1·5〇6.根据权利要求1所述的埃米防蓝光镜片,其特征在于:所述保护层为防水薄膜,厚度为50-200埃米。7.—种制备权利要求1-6中任一项所述的埃米防蓝光镜片的方法,其特征在于:包括以下步骤:1基底清洁后烘烤,放入冶具,送入真空室;2利用真空镀膜技术在步骤1得到的基底上镀打底层,打底层材料为二氧化硅或硅铝混合物,膜层监控厚度800±100埃米;3利用真空镀膜技术,在离子源设备辅助成膜条件下,在步骤(1得到的打底层上依次交替堆叠高折射率层和低折射率层,所述的高折射率层材料为Ta2〇5、Ti3O5或Nb2O5中的任意一种,膜层监控厚度500±100埃米,所述的低折射率层材料为二氧化硅或硅铝混合物,最后一层所述低折射率层的膜层监控厚度1000-1600埃米,其余所述低折射率层的膜层监控厚度800±100埃米;⑷在步骤⑶所得的最后一层所述低折射率层上镀上保护层。8.根据权利要求7所述的制备埃米防蓝光镜片的方法,其特征在于:所述步骤(1中烘烤为在40-80°C烘烤I_3h。9.根据权利要求7所述的制备埃米防蓝光镜片的方法,其特征在于:所述步骤(1中真空室的真空度彡3XlT5Torr。10.根据权利要求7所述的制备埃米防蓝光镜片的方法,其特征在于:所述步骤3中离子源设备辅助成膜,工作气体为氩气或者氧气,使用电压为120-180V,电流为4-9A。

百度查询: 厦门美澜光电科技有限公司 一种埃米防蓝光镜片及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。