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申请/专利权人：山东新北洋信息技术股份有限公司
申请日：2019-10-25
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN112707197B
主分类号：B65H5/36
分类号：B65H5/36;B65H7/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权;2022.05.06#实质审查的生效;2021.04.27#公开
摘要：本发明公开了一种薄片类介质处理设备，涉及薄片类介质处理技术领域。薄片类介质处理设备包括控制装置、机架、输送机构和纠偏机构，机架设置有输送通道，输送机构用于驱动薄片类介质在输送通道中移动；纠偏机构具有位于输送通道内且用于供薄片类介质通过的纠偏通道，纠偏通道的宽度能够调节；控制装置被配置为：在薄片类介质进入纠偏通道前，根据薄片类介质的需要对纠偏通道的宽度进行一级调节；当薄片类介质移动至纠偏通道内的设定位置时，根据薄片类介质的需要对纠偏通道的宽度进行二级调节。本发明的薄片类介质处理设备能对薄片类介质进行纠偏、纠斜，使薄片类介质以正确的姿态到达处理机构，改善处理效果。
主权项：1.一种薄片类介质处理设备，其特征在于，包括控制装置、机架、输送机构和纠偏机构，所述机架设置有输送通道，所述输送机构用于驱动薄片类介质在所述输送通道中移动，所述输送机构和所述纠偏机构均与所述控制装置通信连接；所述纠偏机构具有位于所述输送通道内且用于供所述薄片类介质通过的纠偏通道，所述纠偏通道的宽度能够调节；所述控制装置被配置为：在所述薄片类介质进入所述纠偏通道前，判断所述薄片类介质的宽度是否小于预设值；在判定所述薄片类介质的宽度小于预设值的情况下，判定需要对所述纠偏通道的宽度进行一级调节；在判定所述薄片类介质的宽度不小于所述预设值的情况下，判定不需要对所述纠偏通道的宽度进行所述一级调节；当所述薄片类介质移动至所述纠偏通道内的设定位置时，根据所述薄片类介质的需要对所述纠偏通道的宽度进行二级调节。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 山东新北洋信息技术股份有限公司 薄片类介质处理设备
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