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等离子体处理装置和等离子体处理方法 

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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置具备处理容器、下部电极、环状构件、内侧上部电极、外侧上部电极、处理气体供给部、第一高频供电部以及第一直流供电部。下部电极载置被处理基板。环状构件载置在下部电极的外周部上。内侧上部电极配置于下部电极的正对面。外侧上部电极以与内侧上部电极电绝缘的方式呈环状地配置于该内侧上部电极的径向外侧。第一高频供电部将用于生成处理气体的等离子体的第一高频施加于下部电极或内侧上部电极和外侧上部电极。第一直流供电部对外侧上部电极施加可变的第一直流电压。外侧上部电极的在处理空间中露出的面的至少一部分处于比内侧上部电极的在处理空间中露出的面靠上方的位置。

主权项:1.一种等离子体处理装置,其特征在于,具有:处理容器,其能够进行真空排气;下部电极,其在所述处理容器内载置被处理基板;环状构件,其被载置在所述下部电极的外周部上;内侧上部电极,其在所述处理容器内以与所述下部电极相向的方式配置;外侧上部电极,其在所述处理容器内以与所述内侧上部电极电绝缘的方式呈环状地配置于所述内侧上部电极的径向外侧;处理气体供给部,其向所述内侧上部电极及所述外侧上部电极与所述下部电极之间的处理空间供给处理气体;第一高频供电部,其将用于通过高频放电来生成所述处理气体的等离子体的第一高频施加于所述下部电极或者所述内侧上部电极和所述外侧上部电极;第一直流供电部,其对所述外侧上部电极施加可变的第一直流电压;夹持构件,其保持所述外侧上部电极;以及接地用构件,其配置于比所述夹持构件靠所述处理空间侧的位置,其中,所述外侧上部电极的在所述处理空间中露出的面的至少一部分处于比所述内侧上部电极的在所述处理空间中露出的面靠上方的位置。

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