申请/专利权人：电子科技大学

申请日：2024-03-08

公开（公告）日：2024-06-21

公开（公告）号：CN118229739A

主分类号：G06T7/30

分类号：G06T7/30;G06T5/80;G06T3/4038;G06T5/50

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.06.21#公开

摘要：该发明公开了一种基于自适应拟合的非均匀性图像校准方法，属于图像处理领域。本发明使用了基于自适应拟合的非均匀性校正算法，对原始图像的响应曲线进行线性拟合，与传统两点矫正法和五点平均校正法相比，得到了更为逼近原响应曲线的拟合曲线。将使用自适应校正拟合的曲线应用于多点校正公式中对CIS原始图像进行非均匀性校正，通过数据图表，证明了此算法的校正效果优于两点矫正算法以及五点平均校正算法。并且在后续计算NU值后，得到对于单体式CIS而言，本专利算法相较于两点矫正算法和五点平均校正算法降低了13.26％与8.08％；对于宽幅面拼接式CIS而言，降低了17.67％与12.03％，校正效果明显提高。

主权项：1.一种基于自适应拟合的非均匀性图像校准方法，该方法包括：步骤1：使用白色标定板作为被摄物体，采集在N个曝光时间下的被摄物体的原始图像，每个曝光时间采集M张，将采集到的同一曝光时间下的M张图像按行方向计算每列像素的均值，然后对这M张图像求平均值，得到N张只有一行像素的图像；步骤2：使用处理后的N张图像，根据其曝光时间从小到大排列后，求出各个成像单元的响应曲线XP，其中P为图像编号，1≤P≤N；使用自适应拟合方法对响应曲线进行拟合，拟合两次后，拟合曲线将出现三个分段点：P2、P3、P4，与起点P1和终点P5一起将拟合曲线分为四段，逼近原响应曲线，其中，P1、P2、P3、P4、P5这五个点分别对应了步骤1处理后的N张图像中的五张图像；步骤3：得到分段点P2、P3、P4后，对P1P2、P2P3、P3P4、P4P5这四段使用两点校正法，其校正参数的计算如式1，式2所示： 其中，和表示第i个成像单元在第L段的两点矫正的增益系数和偏置系数，XiPL是第i个成像单元在编号为PL的图像上的原始响应值；是所有成像单元在编号为PL的图像上的平均响应值。步骤4：求出每个成像单元所有段的和后，将其拼接起来，得到每个成像单元完整的增益系数和偏置系数Giφ和Oiφ，如式3，式4： 其中，φ为第i个成像单元的未校正的原始响应值，0≤φ≤255；步骤5：将所求的Giφ和Oiφ带入两点校正的修正式3与4中，得到第i个成像单元的基于多点校正的校正表达式；Yiφ＝Giφ*Xiφ+Oiφ5其中，Xiφ是第i个成像单元校正前的原始输出信号，Yiφ为第i个成像单元校正后的输出信号；步骤6：在采用标定板进行图像校正后，根据图像像素点的输入数据和输出数据，建立映射关系，得到查找表；然后在后续的校正过程中根据查找表对输入图像进行校正。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 电子科技大学 一种基于自适应拟合的非均匀性图像校准方法

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