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申请/专利权人：北京顺造科技有限公司
申请日：2023-11-27
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN221180309U
主分类号：A47L11/30
分类号：A47L11/30;A47L11/40
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权
摘要：本公开提供一种自清洁模块，用于对侧面清洁组件的清洁模组进行自清洁，其包括：罩体，清洁腔，所述清洁腔形成于所述罩体内部，所述清洁腔内设置有至少一个干涉部件；进水口，所述进水口形成于所述罩体，并且与所述清洁腔流体连通；出水口，所述出水口形成于所述罩体，并且与所述清洁腔流体连通；以及自清洁流体路径，所述自清洁流体路径形成于所述罩体内，所述进水口、清洁腔、出水口沿所述自清洁流体路径从上游到下游依次布置；其中，当所述自清洁模块与所述清洁模组连接后，所述清洁模组的至少部分位于所述清洁腔内，并且与所述至少一个干涉部件干涉。本公开还提供一种侧面清洁组件。
主权项：1.一种自清洁模块，用于对侧面清洁组件的清洁模组进行自清洁，其特征在于，包括：罩体，清洁腔，所述清洁腔形成于所述罩体内部，所述清洁腔内设置有至少一个干涉部件；进水口，所述进水口形成于所述罩体，并且与所述清洁腔流体连通；出水口，所述出水口形成于所述罩体，并且与所述清洁腔流体连通；以及自清洁流体路径，所述自清洁流体路径形成于所述罩体内，所述进水口、清洁腔、出水口沿所述自清洁流体路径从上游到下游依次布置；其中，当所述自清洁模块与所述清洁模组连接后，所述清洁模组的至少部分位于所述清洁腔内，并且与所述至少一个干涉部件干涉。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京顺造科技有限公司 自清洁模块和侧面清洁组件
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