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申请/专利权人：苏州佑伦真空设备科技有限公司
申请日：2024-05-30
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118242880A
主分类号：F27B14/04
分类号：F27B14/04;F27B14/08;F27B14/20;F27B14/14;F27B14/16;F27B14/18;F27D17/00;F27D13/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明涉及真空电子束预熔技术领域，具体为一种可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备，包括外壳体，所述真空预熔腔体的左右两侧面内壁均安装有防着板，防着板的侧面安装有加热灯；所述上冷却板的下方设置有坩埚本体，坩埚本体的下方设置有下冷却板，所述电子束加热机构的两侧安装有高压电阻；所述真空预熔腔体的底面安装有带动坩埚本体旋转的旋转控制组件；所述坩埚本体的上表面等间距开设有放置槽。该可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备，提高了真空预熔腔体内的真空度，继而使得预熔设备很好的在超高真空下对物料进行预熔作业，提高了物料预熔的纯度，可连续式的对六个坩埚套内的物料进行预融作业，提高了预熔的效率。
主权项：1.一种可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备，包括外壳体（1），以及安装在外壳体（1）前侧面的腔门（2）；腔门（2）左侧的外壳体（1）内嵌入安装有控制面板（4），所述控制面板（4）后侧的外壳体（1）内安装有PLC控制模块（9）；其特征在于，还包括：所述外壳体（1）的后侧面安装有干泵（7）；所述外壳体（1）的内部安装有真空预熔腔体（3）；所述真空预熔腔体（3）的左右两侧面内壁均安装有防着板（10），防着板（10）的侧面安装有加热灯（6）；所述真空预熔腔体（3）的底面内壁安装有支撑框（5），支撑框（5）的上表面开槽嵌入安装有上冷却板（14）和防护框（17）；所述上冷却板（14）的下方设置有坩埚本体（23），坩埚本体（23）的下方设置有下冷却板（20），下冷却板（20）的前侧上方安装有电子束加热机构（18），所述电子束加热机构（18）的两侧安装有高压电阻（19）；所述下冷却板（20）安装在真空预熔腔体（3）的底面上表面；所述真空预熔腔体（3）的底面安装有带动坩埚本体（23）旋转的旋转控制组件；所述坩埚本体（23）的上表面等间距开设有放置槽（231）；真空预熔腔体（3）的后侧面安装有固定腔（11），固定腔（11）的底面安装有冷泵（12）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州佑伦真空设备科技有限公司 一种可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备
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