申请/专利权人：鸿舸半导体设备(上海)有限公司

申请日：2024-05-29

公开（公告）日：2024-06-25

公开（公告）号：CN118241183A

主分类号：C23C16/448

分类号：C23C16/448;C23C16/455;C23C16/52

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.06.25#公开

摘要：本发明涉及半导体技术领域，尤其是涉及一种化学气相沉积供气系统，该系统包括进气模块、MO源模块和反应模块，进气模块包括进气第一管道和进气第二管道，进气模块通过进气第一管道与MO源模块连接，进气模块通过进气第二管道与反应模块连接，MO源模块与反应模块连接；MO源模块包括MO源第一管道、MO源第二管道和压力平衡装置，MO源第一管道和MO源第二管道均与压力平衡装置连接以使得MO源第一管道和MO源第二管道内的压力平衡，MO源第一管道与反应模块连接，MO源第二管道与排气系统连接。该化学气相沉积供气系统能够实时平衡管道内的压力，避免压力波动，减少了整个供气管道上零件的数量，提升了生产的精度和准度。

主权项：1.一种化学气相沉积供气系统，其特征在于，所述化学气相沉积供气系统包括：进气模块、MO源模块和反应模块，所述进气模块包括进气第一管道和进气第二管道，所述进气模块通过所述进气第一管道与所述MO源模块连接，所述进气模块通过所述进气第二管道与所述反应模块连接，所述MO源模块与所述反应模块连接；所述MO源模块包括MO源第一管道、MO源第二管道和压力平衡装置，所述MO源第一管道和所述MO源第二管道均与所述压力平衡装置连接以使得所述MO源第一管道和所述MO源第二管道内的压力平衡，所述MO源第一管道与所述反应模块连接，所述MO源第二管道与排气系统连接；所述压力平衡装置包括壳体，所述壳体包括进口端、第一出口端和第二出口端，所述第一出口端和所述第二出口端分别通过气道与所述进口端连接，所述进口端与所述进气第一管道连接，所述第一出口端和所述第二出口端分别与所述MO源第一管道和所述MO源第二管道连接；所述壳体的内部设置有彼此连通的压力调节部和压力平衡部，所述压力调节部和所述压力平衡部均与所述进口端、所述第一出口端和所述第二出口端连接；所述压力调节部包括用于调节所述壳体内部的压力的主动调节组件和用于平衡所述第一出口端与所述第二出口端的压力的压力平衡组件，所述压力平衡组件包括第一调节块和第二调节块，所述第一调节块设置于所述第一出口端与所述进口端连接的气道，所述第二调节块设置于所述第二出口端和所述进口端连接的气道，所述第一调节块和所述第二调节块传动连接以使得所述第一调节块和所述第二调节块能够同步运动；所述主动调节组件与所述第一调节块和所述第二调节块连接，所述主动调节组件能够同步带动所述第一调节块和所述第二调节块改变位置以改变所述气道的大小，进而通过调整所述气道内的气体流量以使得所述壳体内部的压力改变；所述压力平衡部包括第一调节件、第二调节件和同步流道，所述第一调节件设置于所述第一出口端与所述进口端连接的气道，所述第二调节件设置于所述第二出口端与所述进口端连接的气道，所述第一出口端与所述进口端连接的气道和所述第二出口端与所述进口端连接的气道均与所述同步流道连接，所述第一调节件和所述第二调节件分别设置于所述同步流道的两端，所述第一调节件和所述第二调节件分别与所述第一调节块和所述第二调节块抵接；在所述第一出口端和所述第二出口端的压力不同的情况下，所述第一调节块和所述第二调节块的位置不同，所述第一调节件和所述第二调节件的位置不同，所述压力平衡组件处于失衡状态；所述同步流道两端的压力不同以使得所述第一调节件和所述第二调节件改变位置直至位置相同，所述第一调节块和所述第二调节块通过所述第一调节件和所述第二调节件的带动以改变位置，以使得所述第一出口端和所述第二出口端的压力相同，所述压力平衡组件由失衡状态切换至平衡状态。

全文数据：

权利要求：

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