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申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

摘要：本发明涉及一种用于投射曝光系统1的光学系统100、200，包括光阑110、112、212、224、302，特别是遮蔽光阑112、302、用于数值孔径的光阑110、212或遮蔽眩光光阑224，其至少部分布置在光学系统100、200的光束路径114、218中，以便遮蔽光束路径114、218的至少部分；用于将热量Q引入光阑110、112、212、224、302的加热装置324，其中所述光阑110、112、212、224、302能够使用热量Q的引入从起始形状Z1变形为设计形状Z2；以及温度传感器334、光元件336和或红外相机338，其中所述光学系统100、200的开环和闭环控制单元340被设计成使得基于所述温度传感器334、所述光元件336和或所述红外相机338的测量信号和或基于与另外的光学元件124、M1‑M6的温度分布有关的信息，它确定光阑110、112、212、224、302的局部光阑温度分布，并控制加热装置324，使得可以实现光阑110、112、212、224、302的目标光阑温度分布，所述另外的光学元件布置在光束路径114、218中与所述光阑110、112、212、224、302相当的位置处。

主权项：1.一种用于投射曝光装置1的光学系统100，200，包括光阑110、112、212、224、302，特别是遮蔽光阑112、302、用于所述数值孔径的光阑110、212或外来光光阑224，其至少部分布置在所述光学系统100、200的光束路径114、218中，以便遮蔽所述光束路径114、218的至少部分，加热装置324，用于将热量Q引入所述光阑110、112、212、224、302中，所述光阑110、112、212、224、302能够借助于所述热量Q的引入从初始几何形状Z1变形为设计几何形状Z2，以及温度传感器334、光元件336和或红外相机338，其中所述光学系统100、200的开环和闭环控制装置340被配置为基于来自所述温度传感器334、所述光元件336和或所述红外相机338的测量信号和或基于与布置在所述光束路径114、218中与所述光阑110、112、212、224、302相当的位置处的另外的光学元件124、M1-M6的温度分布有关的信息来确定所述光阑110、112、212、224、302的局部光阑温度分布，并且控制所述加热装置324，使得能够获得所述光阑110，112，212，224，302的目标光阑温度分布。

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