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反射镜,成像光学单元,以及投射曝光设备 

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申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

摘要:本发明涉及投射光刻的成像光学单元7,其具有多个反射镜M1至M8,用于将成像光3从物场4引导到像场8中。物场4跨越于两个物场坐标x,y,法线坐标z垂直于这两个物场坐标。成像光3在第一成像光平面xzHR中传播穿过成像光学单元7的至少一个第一平面中间像18。在第二成像光平面yz中,成像光传播穿过成像光学单元7的至少一个第二平面中间像19,20。第一平面中间像18的数量和第二平面中间像19,20的数量彼此不同。结果是制造成本减少的成像光学单元。

主权项:1.反射镜M6,M7,所述反射镜作为成像光学单元7;31的组成部分,所述成像光学单元沿着成像光束路径将成像光3从物平面5中的物场4引导到像平面9中的像场8中;-包括可用于反射的反射表面,所述反射表面包括具有基本形状GF的边界轮廓RK,所述基本形状对应于所述物场的基本形状,其中至少两个轮廓凸起KA沿着该边界轮廓RK的侧边缘布置。

全文数据:

权利要求:

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