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申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日：2022-11-15
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118251516A
主分类号：C23F1/18
分类号：C23F1/18;H05K1/09
优先权：["20211118 JP 2021-187809"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：一种水性组合物；以及使用其的铜箔的粗糙化方法、和粗糙化铜箔的制造方法、以及粗糙化铜箔、使用其的柔性印刷电路板，该水性组合物用于对压延铜箔的表面进行粗糙化，含有过氧化氢A、硫酸B、以及唑化合物C和或其盐，前述水性组合物中的过氧化氢A的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.1～5质量％，前述水性组合物中的硫酸B的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.5～15质量％，前述水性组合物中的唑化合物C的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.01～0.3质量％，前述水性组合物中的过氧化氢A与硫酸B的摩尔比以过氧化氢硫酸的比表示为0.1～1.0的范围，前述唑化合物C为选自由苯并三唑化合物和四唑化合物组成的组中的至少1种。
主权项：1.一种水性组合物，其用于对压延铜箔的表面进行粗糙化，该水性组合物含有过氧化氢A、硫酸B、以及唑化合物C和或其盐，所述水性组合物中的过氧化氢A的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.1～5质量％，所述水性组合物中的硫酸B的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.5～15质量％，所述水性组合物中的唑化合物C和或其盐的含量以水性组合物的总质量为基准计为0.01～0.3质量％，所述水性组合物中的过氧化氢A与硫酸B的摩尔比以过氧化氢硫酸的比表示为0.1～1.0的范围，所述唑化合物C为选自由苯并三唑化合物和四唑化合物组成的组中的至少1种。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 压延铜箔的粗糙化液、粗糙化铜箔的制造方法
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