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申请/专利权人：之江实验室
申请日：2024-03-29
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259558A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G03F7/32;G03F1/26;G03F7/004;G03F7/075
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明公开了一种基于轴向分辨率压缩优化刻写结构表面粗糙度的方法；该方法通过引入0‑π相位掩膜调制的边缘抑制光，实现刻写结构横向和轴向分辨率的提升；同时，在光刻胶组合物中添加自由基抑制剂，进一步提高刻写的空间分辨率；本发明将光抑制效应与化学抑制效应相结合，实现平面圆盘、微透镜表面粗糙度的降低，且规避了由于轴向分辨率过低引发的弯曲轮廓器件表面的台阶状痕迹；本发明能为复杂光学器件制备中表面粗糙度的优化提供基础。
主权项：1.一种基于轴向分辨率压缩优化刻写结构表面粗糙度的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，取飞秒激光直写光刻胶组合物滴加在载玻片上，启动双光束飞秒激光直写系统，同时发出飞秒激光、连续激光；飞秒激光的光斑为实心斑，光束为单高斯激发光；连续激光的光斑通过0-π相位掩膜调制，光束为0-π相位掩膜调制的边缘抑制光；利用单高斯激发光和0-π相位掩膜调制边缘抑制光耦合后的双光束，以常规的油-基板-光刻胶方式对光刻胶组合物进行曝光，得到光刻胶图案；其中，飞秒激光直写光刻胶组合物由单体、双光子引发剂和自由基抑制剂组成；单体为丙烯酸改性的多面体低聚倍半硅氧烷，双光子引发剂为7-二乙基氨基-3-噻吩甲酰基香豆素，自由基抑制剂为双2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基-1-氧基癸二酸酯；步骤2，将曝光后的光刻胶图案浸入到显影液中进行显影，得到微结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 之江实验室 基于轴向分辨率压缩优化刻写结构表面粗糙度的方法
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