申请/专利权人：安徽大学

申请日：2023-11-06

公开（公告）日：2024-06-25

公开（公告）号：CN117410726B

主分类号：H01Q21/00

分类号：H01Q21/00;H01Q1/50;H01Q15/14;H01Q19/10;H01Q19/06;H01Q15/02;H01Q15/00;H01Q1/24

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.25#授权;2024.02.02#实质审查的生效;2024.01.16#公开

摘要：本发明公开一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源，包括：自上而下设置的，金属反射面、介质块、标准圆波导及底座；其中金属反射面自上而下包括金属圆柱及金属曲面结构；介质块自上而下包括介质圆台及阶梯状结构；金属曲面结构的下表面为金属反射曲面，介质圆台的上表面为介质曲面；金属反射曲面与介质曲面相贴合；介质曲面由截取椭圆的部分曲线旋转而成且介质曲面的横截面直径自上而下逐渐减小；阶梯状结构包括自上而下直径逐渐减小且中心在同一直线设置的若干个圆柱形介质柱，若干个圆柱形介质柱厚度相同；在馈源中，电磁波通过同轴馈电的方式进入标准圆波导中向上传输，通过介质块，在金属反射面的作用下向下辐射。

主权项：1.一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源，其特征在于，包括：自上而下依次设置的，金属反射面、介质块、标准圆波导及底座；其中所述金属反射面自上而下包括金属圆柱及金属曲面结构；所述介质块自上而下包括介质圆台及阶梯状结构；所述金属曲面结构的下表面为金属反射曲面，所述介质圆台的上表面为介质曲面；所述金属反射曲面与介质曲面相贴合；所述介质曲面由截取椭圆的部分曲线旋转而成且介质曲面的横截面直径自上而下逐渐减小；所述阶梯状结构包括自上而下直径逐渐减小且中心在同一直线设置的若干个圆柱形介质柱，所述若干个圆柱形介质柱厚度相同；在所述馈源中，电磁波通过同轴馈电的方式进入标准圆波导中向上传输，通过介质块，在金属反射面的作用下向下辐射；所述馈源设置于反射、透射阵列中心，根据所述反射、透射阵列中心有效直径，调整所述馈源的辐射焦点到天线阵面的距离，进而调整焦径比，以实现天线系统的状态及功能调整；所述金属圆柱的直径为108mm，厚度为3mm；所述金属曲面结构的顶部截面直径为108mm，高度为20.7mm；所述介质曲面为由长半轴为73.6mm，离心率为0.6的椭圆截取的一段曲线绕旋转轴旋转而形成，所述旋转轴为经过长轴与所述椭圆的交点且平行于短轴的直线；所述介质曲面的高度为20.7mm；环焦馈源位于应用的反射、透射阵列中心，将反射、透射阵列中心留出合适于圆波导直径的圆孔，将馈源插入阵面中，通过结构固定件与阵列相对固定；根据系统需要，在保证天线阵面良好辐射的前提下，调整标准圆波导的高度，灵活适用天线系统的剖面要求；对于可重构反射、透射阵列天线，根据不同规模的阵面，改变环焦馈源与阵面的相对高度使馈源辐射出的电磁波充分被阵面中的天线单元接收并辐射，实现高口径效率和单波束、多波束扫描功能，根据系统具体要求对波束进行控制实现波束展宽和波束赋形功能。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安徽大学 一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源

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