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一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置 

申请/专利权人:江苏亚电科技股份有限公司

申请日:2023-12-13

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN117894713B

主分类号:H01L21/67

分类号:H01L21/67;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/683

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2024.05.03#实质审查的生效;2024.04.16#公开

摘要:本发明涉及半导体设备领域,特别是涉及一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置,包括用于对晶圆片进行吸附支撑的固定机构,所述固定机构下侧设置有用于带动晶圆片进行旋转的驱动机构,所述驱动机构固定在锥形罩内部。本发明利用空心轴的转动来带动扇叶在防护罩内部转动,通过扇叶的转动来将外部空气通过过滤网过滤送入到送风罩中,利用送风罩来加快空气的流动速度并在晶圆片底部形成向外扩散的伞型风幕,随即防止晶圆片清洗时清洗液附着在晶圆片背部,利用液压杆伸出长度来推动顶推架对第一隔离罩、第二隔离罩和第三隔离罩进行分别顶推,将清洗时不同清洗液进行分隔收集,方便晶圆片处理时多种清洗液的分离收集以便后期处理。

主权项:1.一种清洗液单独收集的单片式晶圆清洗装置,包括用于对晶圆片(7)进行吸附支撑的固定机构(2),所述固定机构(2)下侧设置有用于带动晶圆片(7)进行旋转的驱动机构(4),所述驱动机构(4)固定在锥形罩(5)内部,所述锥形罩(5)下端固定有底座(6),所述晶圆片(7)上方设置有用于喷出清洗液的冲洗臂(8),其特征在于:还包括用于清洗晶圆片(7)时对不同倾斜液进行分隔收集的分隔机构(1);所述分隔机构(1)包括倾斜罩(11),所述倾斜罩(11)内部的底侧位置滑动连接有第一隔离罩(12),所述第一隔离罩(12)内侧设置有第二隔离罩(13),所述第二隔离罩(13)内侧设置有第三隔离罩(14),所述倾斜罩(11)下端镶嵌有四个收集槽(15),所述收集槽(15)与其下侧的导流管(18)连通,所述锥形罩(5)内部设置有顶推架(17),所述顶推架(17)下侧设置有液压杆(16),所述第三隔离罩(14)内侧设置有用于防止清洗液流到所述晶圆片(7)底部的吹扫机构(3);所述倾斜罩(11)底部位于相邻的两个收集槽(15)之间均开设有用于方便第一隔离罩(12)、第二隔离罩(13)和第三隔离罩(14)上下滑动的环形滑槽;所述第一隔离罩(12)、第二隔离罩(13)和第三隔离罩(14)下端分别固定有三组用于和顶推架(17)配合的楔形座。

全文数据:

权利要求:

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