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室内空间气流走向的管控系统及用于半导体生产洁净厂房的管控系统 

申请/专利权人:上海必修福企业管理有限公司

申请日:2023-03-23

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN221222921U

主分类号:F24F7/08

分类号:F24F7/08;F24F13/08;F24F7/003;F24F8/108;F24F13/28

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权

摘要:本实用新型提供了一种室内空间气流走向的管控系统,该管控系统包括:进风侧,在室内空间的水平方向的一侧设置,用于让外部洁净空气进入所述室内空间;出风侧,在与该一侧水平相对的另一侧设置,用于排出所述室内空间的空气;室内空间的相对的两个垂直面分别设置为所述进风侧和所述出风侧。本实用新型提供的管控系统可以控制室内空间气流走向为从进风侧向出风侧流动,改变了现有例如半导体制造厂房中气流自上而下竖直流动的方法,能控制气流横向均匀流动,保证了生产线的上游无纳米级颗粒,避免产生颗粒的任何可能,并且,通过采用低风速进入室内,可以相比目前的高风速竖直方式,节能翻倍,而且大大改善了操作者的工作环境。

主权项:1.一种室内空间气流走向的管控系统,其特征在于,包括:进风侧,在室内空间的水平方向的一侧设置,用于让外部洁净空气进入所述室内空间;出风侧,在与该一侧水平相对的另一侧设置,用于排出所述室内空间的空气。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海必修福企业管理有限公司 室内空间气流走向的管控系统及用于半导体生产洁净厂房的管控系统

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