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申请/专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日：2019-12-12
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN112071745B
主分类号：H01L21/027
分类号：H01L21/027;H01L21/308;H01L21/311;H01L21/3213
优先权：["20190610 KR 10-2019-0067796"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权;2020.12.29#实质审查的生效;2020.12.11#公开
摘要：公开了一种用于形成图案的方法，该方法能够通过以下步骤来改善线宽粗糙度LWR：在刻蚀目标层上形成第一抗蚀剂材料；在第一抗蚀剂材料上形成包括遮光部分和透光部分的第二抗蚀剂材料；使用第二抗蚀剂材料的遮光部分作为曝光掩模来曝光第一抗蚀剂材料；去除第二抗蚀剂材料；通过使曝光的第一抗蚀剂材料显影来形成第一抗蚀剂图案；以及使用第一抗蚀剂图案作为刻蚀阻挡层来刻蚀刻蚀目标层。
主权项：1.一种用于形成图案的方法，包括：在刻蚀目标层上形成第一抗蚀剂材料；在所述第一抗蚀剂材料上形成包括遮光部分和透光部分的第二抗蚀剂材料；使用所述第二抗蚀剂材料的所述遮光部分作为曝光掩模来曝光所述第一抗蚀剂材料；去除所述第二抗蚀剂材料；通过使曝光的第一抗蚀剂材料显影来形成第一抗蚀剂图案；和使用所述第一抗蚀剂图案作为刻蚀阻挡层来刻蚀所述刻蚀目标层，其中，形成包括遮光部分和透光部分的第二抗蚀剂材料的步骤包括：在所述第一抗蚀剂材料上形成透光抗蚀剂材料；和将所述透光抗蚀剂材料的一部分转变成遮光抗蚀剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 爱思开海力士有限公司 用于形成图案的方法
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