龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：三星电子株式会社
申请日：2023-11-03
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259544A
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004;G03F7/027
优先权：["20221227 KR 10-2022-0186383"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：提供抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法，所述抗蚀剂组合物包括由下式1表示的有机金属化合物、和包括由下式2表示的重复单元的聚合物，其中，在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L23、a21‑a23、R21‑R24、b22、p、和X21如说明书中所描述的。式1M11R11nOR124‑n式2
主权项：1.抗蚀剂组合物，包括：由式1表示的有机金属化合物；和包括由式2表示的重复单元的聚合物：式1M11R11nOR124-n，式2 其中，在式1和2中，M11为铟In、锡Sn、锑Sb、碲Te、铊Tl、铅Pb、铋Bi、银Ag、或钋Po，R11为任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化、或环状C1-C30单价烃基团，R12为任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化、或环状C1-C30单价烃基团，或者为*-M12R13mOR143-m，其中M12为铟In、锡Sn、锑Sb、碲Te、铊Tl、铅Pb、铋Bi、银Ag、或钋Po，R13和R14各自独立地为任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化、或环状C1-C30单价烃基团，m为0-3的整数，n为1-4的整数，L21-L23各自独立地为单键，O，S，C＝O，C＝OO，OC＝O，C＝ONH，NHC＝O，或者任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化、或环状C1-C30二价烃基团，或其任意组合，a21-a23各自独立地为1-4的整数，A21为C6-C30芳基或C1-C30杂芳基，R21-R24各自独立地为氢，氘，卤素，或者任选地含有一个或多个杂原子的直链、支化、或环状C1-C30单价烃基团，b22为1-10的整数，p为1-10的整数，X21为离去基团，和*为与相邻原子的结合位点。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 抗蚀剂组合物和通过使用其形成图案的方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号