申请/专利权人:宁波安集微电子科技有限公司
申请日:2022-12-28
公开(公告)日:2024-06-28
公开(公告)号:CN118256249A
主分类号:C09K13/00
分类号:C09K13/00;C09K13/06;H01L21/3213;H01L21/311
优先权:
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.06.28#公开
摘要:本发明提供了一种蚀刻组合物及其用途,其中所述蚀刻组合物包括氧化剂,羟胺化合物及其衍生物,络合剂,有机胺,腐蚀抑制剂和去离子水。本发明的蚀刻组合物能够有效刻蚀钼或钼基材料以及氮化钛或钛,同时避免对氧化硅和氧化铝等的刻蚀,操作窗口较大,在半导体蚀刻工艺中具有良好的应用前景。
主权项:1.一种蚀刻组合物,其特征在于,包括氧化剂,羟胺化合物及其衍生物,络合剂,有机胺,腐蚀抑制剂和去离子水。
全文数据:
权利要求:
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