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申请/专利权人：山东昇典半导体新材料有限公司
申请日：2024-05-29
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259554A
主分类号：G03F7/16
分类号：G03F7/16
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本申请提供了一种针对量子点光刻胶的涂布设备及涂布方法，属于半导体制造技术领域，包括基座，所述基座顶部垂设有旋转电机，所述旋转电机的输出轴顶部设置有振动盘，所述振动盘的顶部设置有离心盘，所述振动盘底部设置有振动机构，晶圆置于所述离心盘顶部。本申请通过振动改善光刻胶的流动性，使光刻胶能更均匀有效地填充晶圆表面，降低了需要的离心转速，减少了光刻胶的浪费。
主权项：1.一种针对量子点光刻胶的涂布设备，包括基座（1），其特征在于：所述基座（1）顶部垂设有旋转电机（2），所述旋转电机（2）的输出轴顶部设置有振动盘（4），所述振动盘（4）的顶部设置有离心盘（3），所述振动盘（4）底部设置有振动机构（5），晶圆置于所述离心盘（3）顶部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 山东昇典半导体新材料有限公司 一种针对量子点光刻胶的涂布设备及涂布方法
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