首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

具有碳硅氧烷树枝状大分子结构的共聚物、以及含有该共聚物的组合物、化妆料原料、成膜剂及化妆料 

申请/专利权人:陶氏东丽株式会社

申请日:2020-03-12

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118255914A

主分类号:C08F6/10

分类号:C08F6/10;C08F220/14;C08F220/18;C08F230/08;A61K8/895;A61K8/34;A61Q15/00;A61Q19/00;A61Q17/04;A61Q1/00;A61Q5/12

优先权:["20190401 JP 2019-069813"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:提供一种具有碳硅氧烷树枝状大分子结构的共聚物、含有该共聚物的组合物、化妆料原料、成膜剂及化妆料、该共聚物等的制备方法,该共聚物的特征在于,显著降低具有碳硅氧烷树枝状大分子结构的单体含量。一种共聚物及其用途,该共聚物为具有含有能够自由基聚合的有机基团的碳硅氧烷树枝状大分子结构的不饱和单体a1和具有自由基聚合性乙烯基的与成分a1不同的不饱和单体a2的共聚物,相对于共聚物,未反应不饱和单体a1及衍生自该未反应不饱和单体a1的饱和单体的含量为2500ppm以下。

主权项:1.一种共聚物的制备方法,所述共聚物为具有含有能够自由基聚合的有机基团的碳硅氧烷树枝状大分子结构的不饱和单体a1和具有自由基聚合性乙烯基的与成分a1不同的不饱和单体a2的共聚物,相对于共聚物,未反应不饱和单体a1和衍生自该未反应不饱和单体a1的饱和单体的含量为2000ppm以下,所述共聚物的制备方法的特征在于,包括向具有含有能够自由基聚合的有机基团的碳硅氧烷树枝状大分子结构的不饱和单体a1和具有自由基聚合性乙烯基的与成分a1不同的不饱和单体a2中添加聚合引发剂以进行自由基聚合反应的工序,且包括工序I:在自由基聚合反应中的聚合引发剂的第一次添加后经过至少两小时之后,再添加与第一次添加的聚合引发剂相同或不同的聚合引发剂的工序Ia。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 陶氏东丽株式会社 具有碳硅氧烷树枝状大分子结构的共聚物、以及含有该共聚物的组合物、化妆料原料、成膜剂及化妆料

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。