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纳米孔流动池和制造方法 

申请/专利权人:应用材料公司

申请日:2019-09-27

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN112912726B

主分类号:G01N33/487

分类号:G01N33/487;B81B1/00;B81C3/00

优先权:["20181029 US 62/752,045","20190917 US 16/573,540"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2021.06.22#实质审查的生效;2021.06.04#公开

摘要:本文提供纳米孔流动池和纳米孔流动池的制造方法。在一个实施方式中,一种形成流动池的方法包括在第一基板上形成多层堆叠结构。多层堆叠结构的特征为设置在第一基板上的隔膜层和设置在隔膜层上的材料层,隔膜层具有穿过隔膜层形成的第一开口。方法进一步包括图案化第二基板的表面,以在第二基板中形成第二开口,将第二基板的图案化的表面结合至多层堆叠结构的表面,减薄第一基板,和去除减薄的第一基板和至少部分的材料层,以暴露隔膜层的相对表面。

主权项:1.一种形成流动池的方法,包含以下步骤:在第一基板上形成多层堆叠结构,所述多层堆叠结构包含设置于所述第一基板上的隔膜层和设置于所述隔膜层上的材料层,所述隔膜层具有穿过所述隔膜层形成的第一开口;图案化第二基板的表面,以在所述第二基板中形成第二开口;将所述第二基板的图案化的所述表面结合至所述多层堆叠结构的表面;减薄所述第一基板;和去除减薄的所述第一基板和至少部分的所述材料层,以暴露所述隔膜层的相对的表面。

全文数据:

权利要求:

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