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申请/专利权人：长沙诚德寰宇科技有限公司
摘要：本发明属于去污液领域，具体公开了一种放射性沾污去污液及其制备和应用,所述放射性沾污去污液由螯合剂A组、有机溶剂B组、调节剂C组和助剂D组组成；以100重量份数计：所述螯合剂A组包括：羟基亚乙叉二膦酸3‑6份、二乙基三胺五乙酸五钠8‑12份、六偏磷酸钠2‑8份、焦磷酸钠3‑6份、乙二胺四乙酸二钠3‑6份；所述有机溶剂B组包括：乙酰丙酮3‑5份、甘氨酸2‑4份、水溶性壳聚糖0.1‑1份；所述调节剂C组包括：硼酸3‑6份、柠檬酸1‑3份、椰油酸二乙醇酰胺4‑10份；所述助剂D组包括：甘油3‑6份；余量为水。本发明所述去污液洗消效率高，腐蚀性小，可应用人体皮肤表面，室内环境和仪器仪表，适用场景多，可洗消的放射性核素种类多，使用范围广。
主权项：1.一种放射性沾污去污液，其特征在于，由螯合剂A组、有机溶剂B组、调节剂C组、助剂D组和水组成；以100重量份数计：所述螯合剂A组包括：羟基亚乙叉二膦酸3-6份、二乙基三胺五乙酸五钠8-12份、六偏磷酸钠2-8份、焦磷酸钠3-6份、乙二胺四乙酸二钠3-6份；所述有机溶剂B组包括：乙酰丙酮3-5份、甘氨酸2-4份、水溶性壳聚糖0.1-1份；所述调节剂C组包括：硼酸3-6份、柠檬酸1-3份、椰油酸二乙醇酰胺4-10份；所述助剂D组包括：甘油3-6份；余量为水；上述放射性沾污去污液的制备方法，包括以下步骤：将配方中的各个原料按照比重称重后备用，将螯合剂A组全部加入反应釜后加入50%的水，3000-9000rpm，45-75℃搅拌30-90min后加入50%助剂D组，同时将有机溶剂B组全部加入不锈钢桶中，加入10%的水，8000-12000rpm，70-90℃搅拌30-90min后加入50%助剂D组，将调节剂C组全部加入玻璃杯中，加入40%的水，6000-10000rpm，45-75℃搅拌15-45min，在反应釜中加入有机溶剂B组，4000-8000rpm，45-75℃搅拌5-15min，加入调节剂C组4500-7500rpm，45-75℃搅拌5-15min，直至溶液透明。
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