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垂直腔表面发射激光器及其制造方法 

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申请/专利权人:中国科学院微电子研究所

摘要:本发明公开了一种垂直腔表面发射激光器及其制造方法,包括,依次设置的衬底、N电极接触层、下布拉格反射镜、有源区、两层氧化限制层、上布拉格发射镜、表面光栅、P电极和N电极;所述衬底用于支撑,N电极接触层用于导电,上下布拉格反射镜作为半导体激光器的谐振腔,用于相干加强激光,所述有源区用于产生激光,P电极和N电极是用于施加偏置电流;所述两层氧化限制层用于光电限制;所述表面光栅由一层周期性间隔的材料条纹与低折射率材料条纹交织而成,通过调节表面光栅的厚度、周期和填充因子来控制光偏振辨别能力。

主权项:1.一种垂直腔表面发射激光器,其特征在于,包括,依次设置的衬底、N电极接触层、下布拉格反射镜、有源区、两层氧化限制层、上布拉格发射镜、表面光栅、P电极和N电极;所述衬底用于支撑,N电极接触层用于导电,上下布拉格反射镜作为半导体激光器的谐振腔,用于相干加强激光,所述有源区用于产生激光,P电极和N电极是用于施加偏置电流;所述两层氧化限制层用于光电限制;所述表面光栅由一层周期性间隔的材料条纹与低折射率材料条纹交织而成,通过调节表面光栅的厚度、周期和填充因子来控制光偏振辨别能力。

全文数据:

权利要求:

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