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鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 

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申请/专利权人:信越化学工业株式会社

摘要:本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生具有适当的酸强度且扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐,以下式A表示。

主权项:1.一种鎓盐,以下式A表示; 式中,n1及n2分别独立地为0~2的整数;n3在n1=0时为1≤n3≤5的整数,在n1=1时为1≤n3≤7的整数,在n1=2时为1≤n3≤9的整数;n4在n2=0时为0≤n4≤5的整数,在n2=1时为0≤n4≤7的整数,在n2=2时为0≤n4≤9的整数;L为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、酰胺键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键;R1分别独立地为碘原子或也可含有杂原子的分支状或环状的碳数3~20的烃基,且至少1个R1键结于和L所键结的碳原子相邻的碳原子;又,n3为2以上时,多个R1也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环;R2为也可含有杂原子的碳数1~20的烃基;又,n4为2以上时,多个R2也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环;W1是和相邻的芳香环的碳原子C1及C2一起形成的碳数3~15的环,且形成该环的碳原子的一部分也可被取代成含杂原子的基团;W2是和相邻的芳香环的碳原子C3及C4一起形成的碳数3~15的环,且形成该环的碳原子的一部分也可被取代成含杂原子的基团;Z+为鎓阳离子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 信越化学工业株式会社 鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

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