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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明的课题为提供可形成平坦性、成膜性优异的抗蚀剂下层膜，且提供具有适切的蚀刻特性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜材料。本发明的解决手段为一种抗蚀剂下层膜材料，包含：A不含有酚性羟基的化合物、或酚性羟基经修饰而该酚性羟基的残存率未达2％的化合物，且该化合物的以凝胶渗透层析法所为的聚苯乙烯换算重均分子量为2,500以下的化合物，B下列通式1所示的含有酚性羟基的交联剂，C碱产生剂，及D有机溶剂。式中，Q为单键、或碳数1～20的q价烃基。R16为氢原子、或碳数1～20的烷基。q为1～5的整数。
主权项：1.一种抗蚀剂下层膜材料，其特征为，包含：A不含有酚性羟基的化合物、或酚性羟基经修饰而该酚性羟基的残存率未达2％的化合物，且该化合物的以凝胶渗透层析法所为的聚苯乙烯换算重均分子量为2,500以下的化合物，B下列通式1所示的含有酚性羟基的交联剂，C碱产生剂，及D有机溶剂； 式中，Q为单键、或碳数1～20的q价烃基；R16为氢原子、或碳数1～20的烷基；q为1～5的整数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法
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