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申请/专利权人：通威太阳能(安徽)有限公司
摘要：本发明涉及一种硅片的碱抛光方法、PERC电池及其制备方法。该硅片的碱抛光方法包括：前清洗、碱抛光、后清洗、酸洗、慢提拉及干燥步骤。其中第一批次的碱抛光处理中的碱抛液为初始碱抛液，第n批次的碱抛光处理的碱抛液通过在第n‑1批次的碱抛液添加补液制得。初始碱抛液包括体积比为320～340：9.5～12.5：2.5～3.5的水、碱液及碱抛添加剂；补液中水、碱液及碱抛添加剂的比例为5.5～6.5：0.24～0.28：0.17～0.20。通过调整碱抛液的配方，上述硅片的碱抛光方法中硅片的减重量较小，能够减少硅片碱抛光减重量，降低制备过程中的碎片率，且经碱抛光的硅片背抛面光亮平整。
主权项：1.一种硅片的碱抛光方法，其特征在于，所述碱抛光方法包括依次进行的多个批次碱抛光处理，各个批次的碱抛光处理均包括以下步骤：前清洗：将硅片在第一混合溶液中清洗，所述第一混合溶液包括碱性试剂及H2O2；碱抛光：将前清洗后的所述硅片在碱抛液中进行碱抛光；后清洗：将碱抛光后的所述硅片在第二混合溶液中清洗，所述第二混合溶液包括碱性试剂及H2O2；酸洗：将后清洗后的所述硅片浸泡在酸液中清洗，除去氧化层；慢提拉：在水中清洗酸洗后的所述硅片，并缓慢提出；及干燥；其中，第一批次的碱抛光处理中的所述碱抛液为初始碱抛液，所述初始碱抛液的组分包括：体积比为320～340：9.5～12.5：2.5～3.5的水、碱液及碱抛添加剂；第n批次的碱抛光处理的所述碱抛液通过在第n-1批次的所述碱抛液中添加补液制得；所述补液的组分包括：5.5～6.5：0.24～0.28：0.17～0.20的水、碱液及碱抛添加剂；第n批次的所述补液与所述初始碱抛液的体积比为5.91～6.98：332～356；其中，2≤n≤60；所述碱液选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种的水溶液，所述碱液的浓度为45wt％～48wt％。
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权利要求：
百度查询： 通威太阳能(安徽)有限公司 硅片的碱抛光方法、PERC电池及其制备方法
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