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申请/专利权人：FEI公司
摘要：与激光烧蚀或离子束铣削相关联的表面污染和碎屑沉积是通过将被引导到工件的流与合适的真空压力下的抽吸结合来减少的。通常对真空压力进行选择，使得任何污染物或碎屑具有相对短的平均自由程，以避免在真空腔室中的远处表面上积聚。闸板可用于在处理期间屏蔽带电粒子束光学柱的部分。在与相对短的MFP相关联的真空压力下的处理可与在与相对长的MFP相关联的真空压力下的处理结合，以提供粗略和精细的铣削或烧蚀。
主权项：1.一种带电粒子束CPB设备，包括：真空腔室，所述真空腔室由真空壳体限定；至少一个CPB物镜，所述至少一个CPB物镜定位在所述真空腔室中并且能够操作以产生工件的图像或者以将处理CPB引导到所述工件，用于在所述工件定位在所述真空腔室中的情况下从所述工件移除材料或者向所述工件添加材料；和气体入口和气体出口，所述气体入口和所述气体出口分别定位成将气流引导到所述工件以及接收来自所述工件的气流。
全文数据：
权利要求：
百度查询： FEI公司 一种用于减少激光烧蚀再沉积物的真空腔室中受控气体膜装置
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