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一种Gemini型非离子表面活性剂及其在二氧化硅薄膜蚀刻液中的应用 

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申请/专利权人:福州大学

摘要:本发明公开了一种Gemini型非离子表面活性剂及其在二氧化硅薄膜蚀刻液中的应用,二氧化硅薄膜蚀刻液主要成分包括氢氟酸、氟化铵、Gemini非离子表面活性剂以及超纯水。本发明的蚀刻液中氢氟酸用于蚀刻二氧化硅薄膜;氟化铵用于提供氟离子稳定蚀刻液的蚀刻速率以及保持pH稳定,Gemini非离子表面活性剂是一种以乙二酸作为连接基团,具有双子结构的新型表面活性剂,用于降低蚀刻液的表面张力,提高蚀刻液在硅片表面的润湿性能,使晶圆表面蚀刻后更平整均匀。该蚀刻液可用于蚀刻热氧化生长的二氧化硅薄膜、化学气相沉积物理气相沉积生长的二氧化硅薄膜以及硼磷硅玻璃薄膜,通过调控蚀刻液中各组分的含量,可以满足不同制程的二氧化硅薄膜的蚀刻指标要求。

主权项:1.一种Gemini非离子表面活性剂,其特征在于,所述Gemini非离子表面活性剂是一种以乙二酸作为连接基团,具有双子结构的新型表面活性剂,包括乙二酸基Gemini表面活性剂。

全文数据:

权利要求:

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