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申请/专利权人：悟劳茂材料公司
摘要：本发明涉及掩模制造方法。本发明的掩模制造方法用于制造OLED像素形成用掩模，该方法包括以下步骤：a准备掩模金属膜；b在掩模金属膜的至少第一面上形成图案化的第一绝缘部；c在掩模金属膜的第一面上通过第一绝缘部图案间的空间形成副掩模图案；d通过夹设隔板绝缘部来粘合形成有副掩模图案的掩模金属膜的第一面与支撑基板；e使用与掩模金属膜的第一面相对的第二面上形成的第二绝缘部图案间的空间，在掩模金属膜上形成主掩模图案，从而制造掩模。
主权项：1.一种掩模制造方法，其用于制造OLED像素形成用掩模，该方法包括以下步骤：a准备掩模金属膜，该掩模金属膜具有可包含一个或多个掩模单元区域的尺寸；b在掩模金属膜的第二面上形成载体部；c在掩模金属膜的至少第一面上形成图案化的第一绝缘部；d在掩模金属膜的第一面上通过第一绝缘部图案间的空间形成副掩模图案；e通过夹设隔板绝缘部来粘合形成有副掩模图案的掩模金属膜的第一面与支撑基板；f将载体部从掩模金属膜的第二面剥离；g使用与掩模金属膜的第一面相对的第二面上形成的第二绝缘部图案间的空间，在掩模金属膜上形成主掩模图案，从而制造掩模，其中，在步骤e中，隔板绝缘部填充于暴露在掩模金属膜的第一面上的副掩模图案内。
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