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申请/专利权人：武汉大学
摘要：本发明公开一种等离子体辅助的纳米压印装置及方法，装置包括压印腔、纳米压印机构、等离子体清洗机构、第一机械臂、第三机械臂及第二机械臂；压印腔为一能够调整真空度的相对密封腔，用于提供压印操作空间，压印腔内至少配置有料仓；通过三个机械臂控制纳米压印动作，常压环境下进行纳米压印，所述等离子体清洗机构在真空环境中产生等离子体消除纳米压印表面或图案上的残余颗粒，通过循环进行光刻胶涂抹，纳米压印，UV紫外光固化，等离子体清洗，结构填充流程，可实现洁净三维结构的纳米压印。本发明通过计算机操控机械臂完成图案或三维结构的纳米压印过程，实现人机协调控制的纳米压印，通过等离子体消除纳米压印残余颗粒，获得洁净纳米压印表面，图案或三维结构，提升纳米压印的加工精度和制造器件的性能。
主权项：1.一种等离子体辅助的纳米压印装置，其特征在于，包括：压印腔，为一能够调整真空度的相对密封腔，用于提供压印操作空间，压印腔内至少配置有料仓；真空调节机构，用于调节压印腔内真空度；工作台，配置于压印腔内，工作台上设置有用于放置待压印基底的压印工位；压印机构，配置于压印腔内，用于携带所需压印模板对基底进行压印；等离子体清洗机构，配置于压印腔内，用于喷出所需的等离子气体；第一机械臂，用于驱动压印机构对工作台上的基底进行压印或离开压印工位；第二机械臂，用于在料仓和压印工位之间移动，对基底进行上下料操作及光刻胶涂覆；以及第三机械臂，用于驱动等离子体清洗机构移动到压印工位进行等离子气体清洗。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉大学 一种等离子体辅助的纳米压印装置及方法
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