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基板处理装置和基板处理方法 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:本发明的课题是缩短基板处理装置的长度。本发明的解决方案的基板处理装置具有去程部分以及回程部分,基板在去程部分上移动,去程部分从基板被从索引器装置搬入的被搬入区域到朝向曝光装置搬出基板的接口部为止,从曝光装置向接口部搬入的基板在回程部分上移动,回程部分从接口部到朝向索引器装置搬出基板的被搬出区域为止。去程部分包含清洗部,对从索引器装置搬入的基板实施清洗处理;涂覆部,在用清洗部实施过清洗处理的基板上涂覆处理液;缓冲部,暂时收纳基板;以及搬送机器人,从清洗部搬出基板,向缓冲部搬入基板,从缓冲部搬出基板和向涂覆部搬入基板。回程部分包含对基于处理液的膜实施显影处理的显影部。

主权项:1.一种基板处理装置,具有去程部分以及回程部分,基板在所述去程部分上移动,所述去程部分从所述基板被从索引器装置搬入的被搬入区域到朝向曝光装置搬出所述基板的接口部为止,从所述曝光装置向所述接口部搬入的所述基板在所述回程部分上移动,所述回程部分从所述接口部到朝向所述索引器装置搬出所述基板的被搬出区域为止,其中,所述去程部分包含:清洗部,对从所述索引器装置搬入的所述基板实施清洗处理;涂覆部,在用所述清洗部实施过所述清洗处理的所述基板上涂覆处理液;缓冲部,暂时收纳所述基板;以及搬送机器人,从所述清洗部搬出所述基板,向所述缓冲部搬入所述基板,从所述缓冲部搬出所述基板和向所述涂覆部搬入所述基板,所述回程部分包含对基于所述处理液的膜实施显影处理的显影部,所述去程部分还包含旋转部,使所述基板以沿上下方向的假想旋转轴为中心旋转,所述搬送机器人向所述旋转部搬入所述基板和从所述旋转部搬出所述基板,所述旋转部位于在上下方向上与所述清洗部或所述涂覆部重叠的位置。

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