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申请/专利权人:株式会社力森诺科
摘要:一种CMP用研磨液,其含有磨粒、铁离子供给剂、有机酸、氧化剂及水性液态介质,磨粒包含具有磺基的二氧化硅粒子和不具有磺基的二氧化硅粒子。
主权项:1.一种CMP用研磨液,其含有磨粒、铁离子供给剂、有机酸、氧化剂及水性液态介质,所述磨粒包含具有磺基的二氧化硅粒子和不具有磺基的二氧化硅粒子。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 株式会社力森诺科 CMP用研磨液、储存液及研磨方法
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