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一种镁合金表面MAO膜的制备方法 

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申请/专利权人:浙江科技大学

摘要:本发明一种镁合金表面MAO膜的制备方法,方法的步骤中含有:1配制基础电解液;配置着色电解液;将基础电解液和着色电解液混合,调节混合后的电解液pH值,最终制得微弧氧化着色电解液;2在双极性脉冲微弧氧化电源下进行二步恒流微弧氧化处理,从而获得表面绿色的镁合金;3封孔后处理:将步骤2中获得表面绿色的镁合金放入封孔液中静置,控制水浴锅温度为40℃~60℃,后取出镁合金样品放入干燥箱,温度控制为80℃~100℃内,保温,获得具有表面涂层的镁合金样品。在镁合金表面实现颜色化处理,并可以减少镁合金表面MAO膜存在的孔洞和裂纹,同时对表面颜色化的镁合金进行后处理,可以进一步提升镁合金的耐腐蚀性能。

主权项:1.一种镁合金表面MAO膜的制备方法,其特征在于方法的步骤中含有:1配制基础电解液:先将10~40gL六偏磷酸钠、5~20gL氟化钠、5~20gL氢氧化钾、5~15gL硅酸钠依次加入到去离子水中,进行溶质分散处理,使得基础电解液均匀透明,获得基础电解液;然后进一步配置着色电解液:将0~3gL重铬酸钾与酒石酸钾钠进行络合,机械搅拌至没有沉淀、不溶物析出,制得着色电解液;最后再将基础电解液和着色电解液混合,并通过氢氧化钾来调节混合后的电解液pH值使其达到碱性pH=8,最终制得微弧氧化着色电解液;2微弧氧化处理:将打磨抛光处理好的镁合金作为阳极,选择不锈钢板作为阴极,将阳极浸泡在步骤1制得的微弧氧化着色电解液中,并设置工艺参数:一次工艺参数为:正向电流密度为5~10Adm2,负向电流密度为5~10Adm2,正占空比为30%,负占空比为30%,频率为400~500Hz,在一次工艺参数下进行第一步恒流微弧氧化处理5~10min;接着将正向电流密度设置为1~5Adm2,负向电流密度设置为1~5Adm2,此为二次工艺参数,在此二次工艺参数下进行第二步恒流微弧氧化处理5~10min;在采用降流式的两步恒流微弧氧化处理后,取出镁合金样品放入干燥箱内保温,从而获得表面绿色的镁合金;3封孔后处理:首先,配置封孔液,控制乙醇水溶液和十六烷基三甲基硅烷的体积比为4:1,搅拌均匀,通过滴加乙酸来调节封孔液的pH值;其次,将步骤2中获得表面绿色的镁合金放入封孔液中静置,控制水浴锅温度为40℃~60℃,后取出镁合金样品放入干燥箱,温度控制为80℃~100℃内,保温,获得具有表面涂层的镁合金样品。

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