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一种用于微纳结构表面三维形貌上的光刻方法 

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申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

摘要:本发明公开了一种用于微纳结构表面三维形貌上的光刻方法。该方法通过结构光显微测量样品的表面形貌,结合光刻图案,设计出对应样品表面三维形貌的三维光刻图案,并通过计算全息算法得到计算全息图,将计算全息图加载到液晶空间光调制器上对入射激光进行调制,调制后的激光经物镜汇聚到样品表面进行光刻。本发明将结构光显微测量和单张计算全息图对入射激光进行调制以获得三维光场相结合,在对任意表面形貌的样品进行加工时,可以更加精确的曝光需要转移的图案。

主权项:1.一种用于微纳结构表面三维形貌上的光刻方法,其特征在于:该方法的步骤如下:步骤一:通过上位机程序控制压电陶瓷307以微小步距垂直扫描标准平面物体,每一次扫描过程中,利用DMD数字微镜312投影N步相移的正弦光栅条纹,利用CCD相机311测量系统采集被测表面所调制的条纹图,并将其储存在计算机中;步骤二:每扫描一次,对CCD相机311采集到的条纹图,运用N步相移算法解出每一个像素点的调制度值,扫描M次后,得到每个像素点的M帧调制度值;步骤三:标定出调制度与表面高度之间的关系;步骤四:实验中采集被测物体在线性标定范围内某一位置的一系列相移图像,使用相移法解出调制度,并根据前述的线性区域中调制度与表面高度之间的关系,即可完成被测表面的三维重构;步骤五:将被测表面三维结构和要实现的图案化光刻结构结合,设计目标三维光场;步骤六:通过三维傅立叶变换在目标光场及其三维k空间之间迭代计算三维相位;步骤七:通过相位投影将三维相位叠加到一层上得到其二维相位全息图;步骤八:将相位全息图加载到空间光调制器SLM302上,对入射激光进行调制;步骤九:将被调制的激光通过物镜入射到待刻样品上实现曲面三维光刻。

全文数据:

权利要求:

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