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申请/专利权人：中国核动力研究设计院
摘要：本发明公开了一种用于63Ni电镀源表面发射率测量的法拉第筒，属于放射源表面发射率测量技术领域，解决现有技术中缺少针对63Ni电镀源的法拉第筒测量设备的技术问题；本发明包括设在真空腔室内的支撑筒，以及固定在支撑筒上的双层法拉第套筒、电镀源安装架和二次电子抑制装置，所述双层法拉第套筒包括内层的法拉第筒收集极和外层的法拉第筒屏蔽壳，所述法拉第筒收集极底部布满锯齿结构，所述电镀源安装架设在支撑筒顶部并向下延伸到法拉第筒收集极内部，所述二次电子抑制装置套接在电镀源安装架外；本发明实现了对于直径为1～80mm高活度63Ni电镀源表面发射率的稳定测量工作，具有测量快速、稳定好，操作简单，使用方便的特点。
主权项：1.一种用于63Ni电镀源表面发射率测量的法拉第筒，其特征在于，包括设在真空腔室1内的支撑筒2，以及固定在支撑筒2上的双层法拉第套筒、电镀源安装架3和二次电子抑制装置4，所述双层法拉第套筒包括内层的法拉第筒收集极5和外层的法拉第筒屏蔽壳7，所述法拉第筒收集极5底部布满锯齿结构6，所述电镀源安装架3设在支撑筒2顶部并向下延伸到法拉第筒收集极5内部，所述二次电子抑制装置4套接在电镀源安装架3外。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国核动力研究设计院 一种用于63Ni电镀源表面发射率测量的法拉第筒
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