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一种用于提高多晶硅层钝化效果的水汽退火工艺 

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申请/专利权人:湖南红太阳光电科技有限公司

摘要:本发明公开了一种用于提高多晶硅层钝化效果的水汽退火设备及水汽退火工艺,该水汽退火设备包括用于放置待处理退火样品的腔体,腔体上连通有第一进气管道、尾气排出管道和第二进气管道,位于腔体内部的第二进气管道上设有若干个水汽喷出口,位于腔体外部的第二进气管道连通有用于生产水汽的生产装置。该水汽退火工艺包括对硅片进行高温晶化,通入水汽进行水汽退火处理。本发明水汽退火设备及水汽退火工艺,既可以精确控制低比例水汽进入量,又能保证水汽在腔体内均匀分布,适用于补充并增加多晶硅中的氢含量,以及在提高水汽退火均匀性的同时也能降低水汽对多晶硅层的氧化,有利于提高多晶硅层的钝化效果,适用于制备高性能的晶硅太阳能电池。

主权项:1.一种用于提高多晶硅层钝化效果的水汽退火工艺,采用水汽退火设备对表面沉积有非晶硅层的硅片进行处理,其特征在于,包括以下步骤:S1、将表面沉积有非晶硅层的硅片进行高温晶化,在表面形成多晶硅层;S2、通入水汽,对步骤S1中形成有多晶硅层的硅片进行水汽退火处理,补充并增加多晶硅层中的氢含量;所述水汽以携带的方式进入到腔体(1)中;所述水汽退火过程中携带气体的流量为10sccm~50000sccm;所述水汽退火设备,包括用于放置待处理退火样品的腔体(1),所述腔体(1)上连通有用于输入工艺气体的第一进气管道(2)和用于排出尾气的尾气排出管道(3),所述腔体(1)上还连通有用于输入水汽的第二进气管道(4);所述第二进气管道(4)的一端位于腔体(1)内部,另一端位于腔体(1)外部;所述腔体(1)内部的第二进气管道(4)上设有若干个水汽喷出口(41);所述腔体(1)外部的第二进气管道(4)连通有用于生产水汽的生产装置;所述生产装置包括用于输入携带气体的进气管(51)、密闭水槽(52)和出气管(53),所述进气管插入到密闭水槽(52)内的水中,所述第二进气管道(4)通过出气管(53)与密闭水槽(52)顶部连通;所述进气管(51)上还设有用于调控携带气体流量的第一流量控制阀(54)。

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百度查询: 湖南红太阳光电科技有限公司 一种用于提高多晶硅层钝化效果的水汽退火工艺

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