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申请/专利权人：北京华卓精科科技股份有限公司
摘要：本实用新型涉及微透镜阵列制备技术领域，具体而言，涉及一种微透镜阵列制备装置。微透镜阵列制备装置包括激光发射模组、第一反射镜、第二反射镜和载台；载台的台面用于放置基板，第一反射镜、第二反射镜和载台的台面均与激光发射模组的激光发射端相对，且第一反射镜、第二反射镜和载台的台面三者两两垂直；激光发射模组发出的激光光束平行于参照面，参照面为第一反射镜与第二反射镜的平分面。本实用新型提供的微透镜阵列制备装置，具有高分辨率、高精度、高性能的优势，可以实现微米和纳米级别的微透镜阵列结构，能够获得更加精密和高性能的微透镜阵列器件；可实现精确控制，且具有高效制造的优势，并可省去制造掩膜的成本。
主权项：1.一种微透镜阵列制备装置，其特征在于，包括激光发射模组、第一反射镜1、第二反射镜2和载台3；所述载台3的台面用于放置基板4，所述第一反射镜1、所述第二反射镜2和所述载台3的台面均与所述激光发射模组的激光发射端相对，且所述第一反射镜1、所述第二反射镜2和所述载台3的台面三者两两垂直；所述激光发射模组发出的激光光束平行于参照面，所述参照面为所述第一反射镜1与所述第二反射镜2的平分面。
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百度查询： 北京华卓精科科技股份有限公司 微透镜阵列制备装置
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