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申请/专利权人：北京超弦存储器研究院
摘要：本公开涉及一种光学邻近修正方法、光学邻近修正系统及光罩的制作方法，光学邻近修正方法包括以下步骤。提供光罩初始版图，光罩初始版图包括：至少一个阶梯图形；阶梯图形用于曝光形成目标图形。获取阶梯图形对应的模拟曝光图形。于模拟曝光图形和目标图形存在尺寸偏差时，确定模拟曝光图形中和目标图形存在尺寸偏差的图形部分为待修正图形；并根据尺寸偏差，调整待修正图形在阶梯图形中对应图形的评价点初始位置，以获得评价点修正位置。根据评价点修正位置，对光罩初始版图进行修正，获得光罩版图。上述光学邻近修正方法可以合规且高效地实现对阶梯图形的光学邻近修正。
主权项：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供光罩初始版图，所述光罩初始版图包括：至少一个阶梯图形；所述阶梯图形用于曝光形成目标图形；获取所述阶梯图形对应的模拟曝光图形；于所述模拟曝光图形和所述目标图形存在尺寸偏差时，确定所述模拟曝光图形中和所述目标图形存在尺寸偏差的图形部分为待修正图形；并根据所述尺寸偏差，调整所述待修正图形在所述阶梯图形中对应图形的评价点初始位置，以获得评价点修正位置；根据所述评价点修正位置，对所述光罩初始版图进行修正，获得光罩版图。
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百度查询： 北京超弦存储器研究院 光学邻近修正方法、光学邻近修正系统及光罩的制作方法
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