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基于激光解键合的MoS2/Si异质结光电探测器与MOSFET三维集成方法及结构 

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申请/专利权人:复旦大学

摘要:本发明公开一种基于激光解键合的MoS2Si异质结光电探测器与MOSFET三维集成方法及结构。该方法包括以下步骤:在Si衬底上形成MoS2Si异质结光电探测器结构层;在SOI晶圆上制作MOSFET结构层;在MOSFET结构层表面形成层间介质层;在光电探测器表面形成粘附层与激光反应层,与支撑衬底直接键合,退火形成稳定的键合对;减薄Si衬底背面;将MOSFET结构层与MoS2Si异质结光电探测器结构层直接键合,退火形成稳定的键合对;使用激光进行解键合,激光与激光反应层烧蚀反应,机械剥离支撑衬底;形成连接光电探测器结构层与MOSFET结构层的硅通孔;在硅通孔内填充Cu,去除粘附层表面的Cu,用去胶液洗去粘附层,完成MOSFET结构层与MoS2Si异质结光电探测器结构层的三维集成。

主权项:1.一种基于激光解键合的MoS2Si异质结光电探测器与MOSFET三维集成方法,其特征在于,包括以下步骤:在Si衬底上形成MoS2Si异质结光电探测器结构层;在SOI晶圆上制作MOSFET结构层;在MOSFET结构层表面形成层间介质层;在光电探测器表面形成粘附层与激光反应层,与支撑衬底直接键合,退火形成稳定的键合对;减薄Si衬底背面;将MOSFET结构层与MoS2Si异质结光电探测器结构层直接键合,退火形成稳定的键合对;使用激光进行解键合,激光与激光反应层烧蚀反应,机械剥离支撑衬底;形成连接光电探测器结构层与MOSFET结构层的硅通孔;在硅通孔内填充Cu,去除粘附层表面的Cu,用去胶液洗去粘附层,完成MOSFET结构层与MoS2Si异质结光电探测器结构层的三维集成。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 复旦大学 基于激光解键合的MoS2/Si异质结光电探测器与MOSFET三维集成方法及结构

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