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申请/专利权人：遵义筑芯威半导体技术有限公司
摘要：本实用新型提供了一种硅片吸附用真空吸盘，涉及真空吸盘技术领域。所述真空吸盘包括：吸盘；吸盘内部开设有真空腔，吸盘的侧壁开设有连通真空腔的负压通道，负压通道通过管路与负压机连接，负压机为吸盘提供吸力；吸盘的正面开设有若干连通真空腔的吸孔；吸孔按照孔径由小到大的顺序依次包括：小吸孔、中吸孔和大吸孔；小吸孔矩阵排列在吸盘的中心，中吸孔排布在吸盘的中圈层，大吸孔排布在吸盘的外圈层；真空吸盘通过合理布局吸盘上吸孔的孔径和位置，使得吸盘外圈吸力大，中圈吸力次之，中心吸力小，能够牢牢吸附住硅片，既能防止硅片脱离，又能避免硅片被吸盘中心过大的吸力拉扯破碎，有效规避曝光图案错位的情况出现。
主权项：1.一种硅片吸附用真空吸盘，其特征在于，所述真空吸盘包括：吸盘1；所述吸盘1内部开设有真空腔2，吸盘1的侧壁开设有连通真空腔2的负压通道3，负压通道3通过管路与负压机连接，负压机为吸盘1提供吸力；所述吸盘1的正面开设有若干连通真空腔2的吸孔；所述吸孔按照孔径由小到大的顺序依次包括：小吸孔4、中吸孔5和大吸孔6；小吸孔4矩阵排列在吸盘1的中心，中吸孔5排布在吸盘1的中圈层，大吸孔6排布在吸盘1的外圈层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 遵义筑芯威半导体技术有限公司 硅片吸附用真空吸盘
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