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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：本文描述了用于基于缺陷来优化图案化过程的方面的方法。例如，一种图案化过程的源和掩模优化的方法包括：在衬底上获得具有具备缺陷的阈值概率的部位；限定所述部位周围的缺陷范围以包括所述衬底上的图案的一部分以及与所述图案的所述部分相关联的一个或更多个评估点；基于与所述缺陷相关联的缺陷指标来确定第一成本函数的值；确定针对所述第一成本函数的第一引导函数，其中所述第一引导函数与所述图案化过程的在所述缺陷范围内的所述一个或更多个评估部位处的性能指标相关联；以及基于所述第一成本函数和所述第一引导函数来调整源和或掩模特性。
主权项：1.一种图案化过程的源和掩模优化的方法，所述方法包括：在衬底上获得具有具备缺陷的阈值概率的部位；限定所述部位周围的缺陷范围以包括所述衬底上的图案的一部分以及与所述图案的所述部分相关联的一个或更多个评估点；基于与所述缺陷相关联的缺陷指标来确定第一成本函数的值；确定针对所述第一成本函数的第一引导函数，其中所述第一引导函数与所述图案化过程的在所述缺陷范围内的所述一个或更多个评估部位处的性能指标相关联；以及通过使用所述第一成本函数的值和所述第一引导函数针对设计布局执行源掩模优化过程来调整源和或掩模特性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于基于缺陷来确定图案化过程的特性以减少热点的方法
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