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申请/专利权人：科安德有限公司
摘要：本发明涉及一种用于表征粒子P，尤其用于确定粒子位置PX、PY、粒子速度vX、vY、粒子加速度aX、aY和或粒子大小D的传感器布置1，其包括：发射器2，其具有：激光源5，其用于产生激光束3；模式转换装置7，其用于产生该激光束3的场分布，该场分布在各位置X、Y处具有该激光束3的局部强度IX,Y及局部偏振方向RX,Y的不同组合；聚焦光学器件8，其用于将该激光束3的该场分布聚焦至该粒子P在焦平面9中行进通过的至少一个测量区域10上，接收器4，其具有：分析器光学器件14，其用于确定该至少一个测量区域10中的该激光束3的该场分布的偏振相关的强度信号I1、I2、I3、I4，且具有分析处理装置20，该分析处理装置20用于表征粒子P，尤其用于在该偏振相关的强度信号I1、I2、I3、I4的帮助下确定该粒子位置PX、PY、该粒子速度vX、vY、该粒子加速度aX、aY和或该粒子大小D。本发明亦涉及一种尤其用于EUV辐射产生设备的具有此传感器布置1的光学布置。
主权项：1.一种用于表征粒子P的传感器组件1，所述传感器组件1用于确定粒子位置PX，PY、粒子速度vX，vY、粒子加速度aX，aY和或粒子大小D，所述传感器组件包括：发射器2，所述发射器具有：用于产生激光束3的激光源5，用于产生激光束3的场分布11、11a的模式转换装置7，所述场分布在每个位置X，Y处具有所述激光束3的局部强度IX，Y以及所述激光束3的局部偏振方向RX，Y的不同组合，聚焦光学器件8，所述聚焦光学器件用于将所述激光束3的场分布11聚焦在由所述粒子P行进通过的焦平面9中的至少一个测量区域10；10a-c上，接收器4，所述接收器具有：分析器光学器件14，所述分析器光学器件14用于求取至少一个测量区域10；10a-c中所述激光束3的所述场分布11、11a的偏振相关的强度信号I1、I2、I3、I4，具有用于基于所述偏振相关的强度信号I1、I2、I3、I4来表征粒子P的分析处理装置20，所述分析处理装置20构造用于确定所述粒子位置PX，PY、所述粒子速度vX，vY、所述粒子加速度aX，aY和或所述粒子大小D。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 科安德有限公司 用于表征粒子的传感器组件
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