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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：基板处理装置具备膜形成单元、周缘部去除单元和搬送机构，膜形成单元包括：第一旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；涂敷液喷嘴，向由第一旋转保持部旋转的基板的被处理面喷出含金属涂敷液，周缘部去除单元包括：第二旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；第一去除液喷嘴，向由第二旋转保持部旋转的基板的被处理面的周缘部喷出第一去除液，膜形成单元和周缘部去除单元的至少一个还包括：第二去除液喷嘴，其向旋转的基板的被处理面的周缘部喷出用于使涂敷液溶解的第二去除液，第一去除液喷嘴在通过从第二去除液喷嘴喷出的第二去除液溶解基板的被处理面的周缘部的涂敷液后，喷出第一去除液，溶解基板的被处理面的周缘部的金属。
主权项：1.一种基板处理装置，其具备：膜形成单元，其通过将含有金属的涂敷液作为含金属涂敷液向基板的被处理面供给，来在所述被处理面形成含金属涂敷膜；周缘部去除单元，其在通过所述膜形成单元形成含金属涂敷膜后，以所述含金属涂敷膜残留在基板的所述被处理面的除周缘部以外的区域的方式，向基板的周缘部供给用于使所述金属溶解的第一去除液；以及搬送机构，其在通过所述膜形成单元形成含金属涂敷膜后，将基板搬送至所述周缘部去除单元，所述膜形成单元包括：第一旋转保持部，其将基板保持为水平姿势并使该基板旋转；以及涂敷液喷嘴，其向由所述第一旋转保持部旋转的基板的被处理面喷出所述含金属涂敷液，所述周缘部去除单元包括：第二旋转保持部，其将基板保持为水平姿势并使该基板旋转；以及第一去除液喷嘴，其向由所述第二旋转保持部旋转的基板的所述被处理面的周缘部喷出所述第一去除液，所述膜形成单元和所述周缘部去除单元的至少一个还包括：第二去除液喷嘴，其向旋转的基板的所述被处理面的周缘部喷出用于使所述涂敷液溶解的第二去除液，所述第一去除液喷嘴在通过从所述第二去除液喷嘴喷出的所述第二去除液溶解基板的所述被处理面的周缘部的所述涂敷液后，喷出所述第一去除液，来溶解基板的所述被处理面的周缘部的所述金属。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理装置、膜形成单元、基板处理方法及膜形成方法
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