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双腔的基座匹配装置和基座匹配方法 

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申请/专利权人:研微(江苏)半导体科技有限公司

摘要:本申请提供了一种双腔的基座匹配装置和基座匹配方法。该基座匹配装置包括状态检测装置和控制器,每个基座的升降杆设置有状态检测装置,状态检测装置在外力驱动下带动升降杆升降,并且在基座的上升过程中检测基座是否到达隔离位置,在隔离位置,基座与腔体内的隔板相接触以使上腔室和下腔室相互流体隔离,每个基座的状态检测装置相互连接,以使每个基座同步升降;控制器被配置为:根据状态检测装置的检测结果判断每个基座是否到达其隔离位置;当每个基座均到达隔离位置后,根据状态检测装置的检测结果判断两个基座的高度是否匹配;其中,当两个基座的高度差达到预设范围内时,两个基座的高度匹配,从而提高半导体双腔处理室的工艺稳定性和产率。

主权项:1.一种双腔的基座匹配装置,所述双腔包括两个腔体,每个腔体中包括用于处理基片的上腔室、用于传输基片的下腔室、用于承载基片的基座,每个基座的底部设置有升降杆,所述基座由升降杆带动在所述上腔室和下腔室之间升降移动,其特征在于,包括状态检测装置和控制器,其中,每个基座的升降杆设置有所述状态检测装置,所述状态检测装置用于在外力驱动下带动所述升降杆升降,并且在所述基座的上升过程中检测所述基座是否到达隔离位置,在所述隔离位置,所述基座与腔体内的隔板相接触以使上腔室和下腔室相互流体隔离,每个基座的状态检测装置相互连接,以使每个所述基座同步升降;每个所述状态检测装置包括升降组件、结合件和检测器,所述升降组件包括第一升降件、第二升降件、第三升降件,其中,所述第一升降件、第二升降件、第三升降件和所述结合件依次设置在所述基座的下方,并都与所述升降杆可活动连接;所述第一升降件与所述第三升降件之间的距离固定;所述第二升降件与所述结合件固定连接;所述升降组件由外力驱动升降时用于带动所述升降杆升降;其中,当所述基座到达隔离位置时,所述第一升降件和所述第二升降件之间具有第一距离;所述检测器包括位移检测器,用于检测所述第一升降件和所述第二升降件之间的第一距离;所述控制器被配置为:根据所述检测器的检测结果判断每个基座是否到达隔离位置;当两个基座均到达隔离位置后,根据每个检测器的检测结果判断两个基座的高度是否匹配,其中,当两个检测器的检测结果为两个第一距离之差在第一范围内时,两个基座的高度匹配。

全文数据:

权利要求:

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