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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本申请提供了一种基片台系统MPCVD设备，包括：层叠设置的微波反射台和大钼台；基片台，设置在所述大钼台远离所述微波反射台的一侧；其中，所述大钼台远离所述微波反射台的一侧设置有环形凸起，所述环形凸起与所述基片台同轴，并环绕在所述基片台的外周。如此设置，在基片台的外周设置环形凸台，可以使基片台上方形成的等离子体分布较为均匀，进而减小中心和边缘的温度差，保证金刚石生长速率一致，降低金刚石晶体应力，降低裂片率。
主权项：1.一种基片台系统，其特征在于，包括：层叠设置的微波反射台和大钼台；基片台，设置在所述大钼台远离所述微波反射台的一侧；其中，所述大钼台远离所述微波反射台的一侧设置有环形凸起，所述环形凸起与所述基片台同轴，并环绕在所述基片台的外周。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 一种基片台系统及MPCVD设备
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