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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明的基片处理系统包括真空输送腔室、多个基片处理模块、环储料器、输送机械臂和控制部。多个基片处理模块和环储料器与真空输送腔室连接。控制部在输送机械臂在使用至少两个末端执行器中的一个来仅输送新品边缘环的情况下，响应基片输送请求，控制输送机械臂以使用至少两个末端执行器中未被利用的末端执行器经由真空输送腔室输送基片。
主权项：1.一种基片处理系统，其特征在于，包括：真空输送腔室；与所述真空输送腔室连接的多个基片处理模块，该多个基片处理模块各自包括基片处理腔室和基片支承部，该基片支承部配置在所述基片处理腔室内，构成为能够支承其上的基片和包围该基片的边缘环；环储料器，其与所述真空输送腔室连接，构成为能够保存至少一个边缘环；输送机械臂，其配置在所述真空输送腔室内，具有至少两个末端执行器；和控制部，所述控制部构成为能够执行a步骤、b步骤和c步骤，其中，所述a步骤，响应基片输送请求，判断所述输送机械臂是否正在经由所述真空输送腔室输送边缘环，所述b步骤，在所述a步骤中判断为所述输送机械臂正在输送边缘环的情况下，判断输送中的边缘环是正在从所述环储料器向所述多个基片处理模块中的任一个输送，还是正在从所述多个基片处理模块中的任一个向所述环储料器输送，所述c步骤，在所述b步骤中判断为所述输送中的边缘环正在从所述环储料器向所述多个基片处理模块中的任一个输送的情况下，通过控制所述输送机械臂，中断所述输送中的所述边缘环从所述环储料器向所述多个基片处理模块中的任一个的输送，使用所述至少两个末端执行器中的未被利用的末端执行器，经由所述真空输送腔室输送基片。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理系统
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