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基片检查系统、基片检查方法和存储介质 

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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质,其中,基片检查系统包括:拍摄部,其设置于基片处理装置中,拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据;膜厚测量部,其设置于基片处理装置中,测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚;和模型制作部107,其制作膜厚模型,膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明,能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。

主权项:1.一种应用于基片处理装置的基片检查系统,所述基片处理装置用于在对象基片上进行成膜处理,所述基片检查系统的特征在于,具有:拍摄部,其设置于所述基片处理装置中,拍摄颜色信息用基片的表面来获取图像数据,其中,在所述颜色信息用基片的表面形成有膜;膜厚测量部,其设置于所述基片处理装置中,测量在膜厚测量用基片的表面上形成的膜的膜厚;和模型制作部,其制作膜厚模型,所述膜厚模型表示了基于所述图像数据获得的关于所述颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息与由所述膜厚测量部测量出的所述膜厚测量用基片上的所述膜的膜厚的对应关系,其中,所述颜色信息用基片的表面的颜色变化是因所述颜色信息用基片的所述膜的形成而引起的,在所述膜厚测量用基片的表面形成的所述膜,是以与所述颜色信息用基片相同的条件,在该膜的下层没有形成其他膜的状态形成的,且是与在所述颜色信息用基片的表面形成的膜相同种类的膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京毅力科创株式会社 基片检查系统、基片检查方法和存储介质

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