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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供能够高精度地检测能够对基片释放涂敷液的喷嘴中的液面位置的基片处理装置、基片处理方法和存储介质。控制部能够执行对拍摄喷嘴图像的喷嘴的液面状态进行分类的第一处理。控制部能够执行对拍摄喷嘴图像进行图像分析的第二处理和判断是否为不一致状态的第三处理。控制部能够对拍摄喷嘴图像进行规定的图像处理，以使第二处理中的图像分析的结果与第一处理中的分类的结果一致。控制部能够对图像处理后的拍摄喷嘴图像进行图像分析。控制部在判断为不是不一致状态的情况下，根据第二处理中的图像分析的结果来检测液面位置。控制部在判断为是不一致状态的情况下，根据第四处理中的图像分析的结果来检测液面位置。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：能够对基片释放涂敷液的喷嘴；能够拍摄所述喷嘴的摄像机；和检测部，其能够基于由所述摄像机拍摄到的所述喷嘴的图像即拍摄喷嘴图像，来检测所述喷嘴中的液面位置，所述检测部能够执行：第一处理，基于所述拍摄喷嘴图像和分类模型，对所述拍摄喷嘴图像的喷嘴的液面状态进行分类，其中，所述分类模型能够根据喷嘴的图像对喷嘴的液面状态进行分类；第二处理，对所述拍摄喷嘴图像进行图像分析；第三处理，判断所述第一处理中的分类的结果和所述第二处理中的图像分析的结果是否为彼此不一致的不一致状态；第四处理，在所述第三处理中判断为是所述不一致状态的情况下，对所述拍摄喷嘴图像进行规定的图像处理，以使所述第二处理中的图像分析的结果与所述第一处理中的分类的结果一致，并且对所述图像处理后的所述拍摄喷嘴图像进行图像分析；和第五处理，在所述第三处理中判断为不是所述不一致状态的情况下，根据所述第二处理中的图像分析的结果来检测所述液面位置，在所述第三处理中判断为是所述不一致状态的情况下，根据所述第四处理中的图像分析的结果来检测所述液面位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、基片处理方法和存储介质
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