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阳极处理设备 

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申请/专利权人:捷普电子(新加坡)公司

摘要:一种阳极处理设备,适于对物件进行阳极处理。阳极处理设备包含供液装置、遮罩装置及升降装置。供液装置用以供应电解液。遮罩装置包括固持件及遮罩机构。固持件用以固持物件。遮罩机构可在操作中接近或远离固持件,用以在接近固持件时遮蔽固持件所固持的物件的一部分并使物件的另一部分显露。升降装置用以带动遮罩装置相对于供液装置移动,使得物件能浸泡于电解液内而使显露出遮罩机构的部分被电解液电解。

主权项:1.一种阳极处理设备100,适于对物件6进行阳极处理;其特征在于:所述阳极处理设备100包含供液装置2、遮罩装置3,及升降装置4,所述供液装置2用以供应电解液5,所述遮罩装置3包括固持件31,及遮罩机构32,所述固持件31用以固持所述物件6,所述遮罩机构32可在操作中接近或远离所述固持件31,所述遮罩机构32用以在接近所述固持件31时遮蔽所述固持件31所固持的所述物件6的一部分并使所述物件6的另一部分显露,所述升降装置4用以带动所述遮罩装置3相对于所述供液装置2移动,使得所述物件6能浸泡于所述电解液5内而使显露出所述遮罩机构32的部分被所述电解液5电解。

全文数据:

权利要求:

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