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基板处理装置 

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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

摘要:本发明提供一种基板处理装置。在基板处理装置中被使用、且与载置基板的载置台的外周空开间隔地包围该载置台的圆筒形状的内壁在下端形成有多个狭缝,在该内壁的内侧面形成有多个自其上端延伸到下端且与该狭缝连通的槽。

主权项:1.一种基板处理装置,具备:处理容器,其具有筒状的侧壁、覆盖所述筒状的侧壁的上部开口部的顶板、以及覆盖所述筒状的侧壁的下部开口部的底板,所述处理容器的内部空间由所述筒状的侧壁、所述顶板以及所述底板规定,所述底板具有大致矩形部分以及从所述大致矩形部分向水平方向外方突出的突起部分,所述底板具有共用排气口,所述共用排气口具有在铅垂方向上贯通所述大致矩形部分的第一部分、以及在铅垂方向上贯通所述突起部分的第二部分;第一基板载置台和第二基板载置台,所述第一基板载置台和所述第二基板载置台配置于所述处理容器的内部空间内;分隔壁,其配置于所述处理容器的内部空间内,能够在上侧位置与下侧位置之间升降,所述分隔壁具有第一圆筒部分和第二圆筒部分,在所述分隔壁处于所述上侧位置时,形成由所述第一基板载置台和所述第一圆筒部分规定的第一处理空间、以及由所述第二基板载置台和所述第二圆筒部分规定的第二处理空间,所述第一处理空间和所述第二处理空间与所述共用排气口连通;升降机构,其使所述分隔壁升降;以及排气机构,其构成为与所述共用排气口连接,并对所述处理容器内进行排气。

全文数据:

权利要求:

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